知識と経験を活かし、お客様のニーズに最適な仕様でご提供致します！
当シリーズは、研究開発用途から生産用途まで、半導体製造プロセスに 関わるあらゆる分野に適応可能なレジスト塗布・現像・ベーク装置です。 自由度の高い設計になっていて、研究開発及び量産仕様に最適です。 また、塗布ユニット/現像ユニットを搭載し、2”/8”ウェーハの 簡易切換えが可能です。 【特長】 ■自由度の高い設計 ■塗布ユニット/現像ユニットを搭載 ■量産仕様に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【ラインアップ】 ■LITHOTRAC Dual-1000 ■LITHOTRAC CB-50 ■LITHOTRAC DB-50 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピンコータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。
