多目的真空炉 NVF-15P(500KPa)
充分な安全機構とともに焼入、焼戻しまでが全自動プログラムコントロールにて可能
物温制御が可能で 小物部品の熱処理に最適な、多目的真空炉
- 企業：中日本炉工業株式会社
- 価格：応相談
真空炉(制御) - 企業4社の製品一覧
製品一覧
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竪型真空炉 MetalMaster
多機能真空炉 MetalMasterは、高品質な性能と実績のある技術を組合、再現性の高い処理結果を生み出し続けます。
竪型真空炉は、オールメタルやグラファイト等の加熱室を採用で きます。さらに、その技術は費用対効果が高く、多用途で、汎用性 が高いため、プロセスやアプリケーションの様々は要求を容易に満 たすことができます。
- 企業：Ipsen株式会社
- 価格：応相談
加圧冷却式真空炉 NVF-600P
ヒーターは炉内円周に配置されているため均一加熱が可能
最大500KPaの冷却ガスを高速循環させるため 急速冷却を可能にした、加圧冷却式真空炉
- 企業：中日本炉工業株式会社
- 価格：応相談
真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1 〜Φ6 ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1 160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
- 企業：テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
- 価格：応相談
加圧ガス冷却横型真空炉『PQシリーズ』
高い保持温度精度を実現する真空熱処理炉
『PQシリーズ』は、幅広い冷却ガス圧に対応可能な横型真空炉です。 加熱室内面はシールド板で被覆することで断熱材の飛散を抑制。 オプションとしてモリブデン板で被覆することで、加熱室内の放射効率を高め 温度分布均一性および均一加熱性を向上します。 また、低温度から高温度までの広範囲において、熱処理品の均一加熱と 分布の均一性を最良にするため、ヒータを上下および両サイドの4面に配置し、 前後方向に3分割制御しています。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■加熱室下方からの冷却ガス吹き込み ■減圧：87kPa、加圧：130kPa～200kPa（オプション：280kPa）による冷却が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社IHI機械システム 本社 セールスグループ
- 価格：応相談
真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1 〜Φ6 ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分（1500℃）、降温1500℃→100℃まで約40分（真空、およびガス置換雰囲気） ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
- 企業：テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
- 価格：応相談
低温用真空炉『TITAN LT』
TITANシリーズのプラットフォームを流用した低温用真空炉！
『TITAN LT』は、Ipsenの独自のフロー生産プロセスで製造された低温用真空炉です。 生産性・短納期・操作性における費用対効果の高い真空炉で、特に真空加熱による光輝処理に最適です。 【用途】 焼鈍、ろう付け、光輝時効処理、応力除去、焼き戻し 【特長】 ■独自の制御用ソフトウェア搭載 ■物温測定、物温管理が容易 ■Ipsen独自のヒーター構造 ■昇温用の対流加熱では2barまで加圧可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：Ipsen株式会社
- 価格：応相談
高圧加圧ガス冷却横型真空炉『RQシリーズ』
幅広い冷却ガス圧に対応する真空熱処理炉
『RQシリーズ』は、シンプルな冷却ガス上下切替機構を搭載した 高圧加圧ガス冷却横型真空炉です。 オプションとして対流加熱機能の付加が可能。 循環ファンによる対流加熱は850℃まで昇温でき、真空加熱（放射加熱）の 欠点である低温での昇温遅れを大幅に改善します。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■圧力損失の少ない流路設計で大きなガス流量 ■冷却ファンに連続定格のモータ採用で、低温域の冷却速度の低下防止 ■可動式ガス流ガイド装置により、ワークへの冷却ガス分布の均一性を向上 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社IHI機械システム 本社 セールスグループ
- 価格：応相談
