高精度真空蒸着装置
360度回転/傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に
基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能
- 企業:株式会社マイクロフェーズ
- 価格:500万円 ~ 1000万円
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360度回転/傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に
基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能
粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。
蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。