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膜厚測定(レンジ) - メーカー・企業と製品の一覧

膜厚測定の製品一覧

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非破壊膜厚測定『PosiTest』

コンパクト、軽量、安定した精密さ。どんな場所でも使用可能!

『PosiTest』は、正確、高信頼性な非破壊測定が可能です。 カーバイドチップを使用しているため寿命が長く精度を維持。 ダイヤルカバーの中央を動かすだけで簡単にキャリブレーションの 再調整が可能です。 全体でパーツにフィット、先端部だけでも測定できます。 【特長】 ■NIST準拠のキャリブレーション ■全てのアプリケーションに適合するスケールレンジ ■国際標準に準拠 ■丈夫な構造でショック、水、酸や溶剤の影響を受けない ■独特なデザインで持ちやすく測定中にずれない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他計測・記録・測定器
  • 膜厚計

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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2(二酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。

  • SiO2 SiNの膜厚測定.jpg
  • 分析機器・装置

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