更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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膜厚測定に関するアプリケーション情報を詳しく解説します
オーシャンオプティクスは、半導体、産業、医療および消費者市場の アプリケーション向けに光学的および非光学的膜厚特性を測定するための モジュラー式および完全統合型システムの両方を提供しています。 顧客は、シリコンウェーハの厚さを測定し、マスク用のフォトレジスト層を判断し、 コーティングの硬度および摩耗を試験するためのシステムを構成しています。 数量の多いOEMアプリケーション向けコンポーネントも利用できます。 これらのデバイスは、真空紫外から赤外までをカバーし、分光技術を 幅広いアプリケーションに役立てるレベルの精度と再現性を実現します。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フィッシャーの製品ラインは、幅広い領域の測定・分析装置に及んでいます。
フィッシャーの製品ラインは、極めて様々なアプリケーションと様々な業界を対象とした、幅広い領域の測定・分析装置に及んでいます。最適の精度で正しい結果を得るために、それぞれにふさわしい測定方法を使用します。電磁式または渦電流式、ベータ線後方散乱式、電解式、微小硬さ法（インデンテーション）、あるいは蛍光X線式など、いずれの方式でもフィッシャーは適正な技術を持ちベストなソリューションをご提供いたします。
赤外線式 非接触 厚み計 「簡易操作とメンテナンスフリー！」 多層膜内の特定層限定厚み計測
＜小型軽量・カスタマイズ可能＞ 既存ラインの狭い設置場所などへ導入可能 ＜すぐに使える操作性＞ 基準片から検量線を自動作成します すぐに計測開始可能です ＜メンテナンスフリー＞ 光源・線源等、短期交換部品はありません ＜操作・表示用パソコン付属＞ 付属パソコンのみでシステムが完了（データ出力可）
多CHでの前後の測定が可能な、多ポイント膜厚測定。複数の受光ヘッドを使用し、複数ポイントの膜厚値を一括測定します。
『FF8』は、サンプルの反射率（干渉波形）を測定し、 膜厚演算方法の中のFFT（フ－リエ変換膜厚計）や、 カーブフィット膜厚計等によって 膜厚値の解析を行う非接触多ポイント膜厚測定が可能です。 膜厚測定の他にフィルム、硝子の厚さ、屈折率の測定も行うことができ、 オプションにより、多層膜・カーブフィット法・顕微鏡・マッピング測定・ 色測定・成分濃度解析も可能です。 オプションにて膜の厚みの差やムラ等の測定・解析を 効率的に行えるように、自動XYステージを使用して 自動マッピング測定が可能です。（マッピング膜測定） 【特長】 ■サンプルの反射率を測定し、FFT等によって膜厚値の解析を行う ■膜厚測定の他にフィルム、硝子の厚さ、屈折率の測定も行える ■測定データはファイル保存ができ、あとから再解析も可能 ■インライン膜厚測定としてもご使用頂ける ■カスタム仕様等の対応も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクト、軽量、安定した精密さ。どんな場所でも使用可能！
『PosiTest』は、正確、高信頼性な非破壊測定が可能です。 カーバイドチップを使用しているため寿命が長く精度を維持。 ダイヤルカバーの中央を動かすだけで簡単にキャリブレーションの 再調整が可能です。 全体でパーツにフィット、先端部だけでも測定できます。 【特長】 ■NIST準拠のキャリブレーション ■全てのアプリケーションに適合するスケールレンジ ■国際標準に準拠 ■丈夫な構造でショック、水、酸や溶剤の影響を受けない ■独特なデザインで持ちやすく測定中にずれない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板やコネクタ端子の表面処理などの膜厚測定を、スピーディに行うことが出来ます
当社で行っている「蛍光X線膜厚測定」についてご紹介いたします。 膜厚が既知の標準試料(2種類以上)を測定して、その特性X線の強度から 検量線を作成し、未知試料の膜厚を測定。 基板表面処理(Ni/Au めっき、はんだレベラ)の膜厚測定や、部品電極、 コネクタ端子表面処理の膜厚測定、簡便な定性分析などの用途に好適です。 【設備紹介】 ＜蛍光X線膜厚測定装置＞ ■SFT9550X (日立ハイテクサイエンス製) ・X線管を用いた上面垂直照射方式 ・最大管電圧：50 kV ・最大管電流：1000 µA ・ビームサイズ：φ30 µm ・実測分解能：0.01 µm ・最小測定幅：70 µm ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
光干渉法による膜厚測定の原理
光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接触・非破壊かつ高速高精度での膜厚測定を可能にしました。 光干渉法は、分光光度計を利用した光学系によって得られた反射率を用いて光学的膜厚を求める方法です。 図１のように金属基板上にコーティングされた膜を例にとると対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金属）や膜境界面で反射します（R2）。この時の光路差による位相のずれによっておこる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法が光干渉法です。
測定時間が短く、最大1000秒！酸化膜を種類別に測定が可能なSERA法をご紹介
当社の分析・故障解析、「酸化膜厚測定(SERA法)」についてご紹介します。 SERA法は、薄膜酸化膜厚、薄膜金属膜厚、金属間化合物層が容易かつ 正確に測定可能。Cu2OとCuOのように、酸化膜を種類別に測定する ことができます。 また、ランドの酸化膜厚とはんだ付け性を試験したところ、 加熱処理により酸化膜厚が増し、はんだの広がり面積が減少、 熱処理を繰り返すことで、SnO2の増加が顕著に認められました。 【SERA法での測定可能金属】 ■酸化膜厚：Sn Ag Cu SnAgCu ■金属膜厚：Au Cu Ni Ag Sn ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
