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多層塗りによる厚膜の作製！スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置
『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュータコントロールによるプログラム設定により、スピンコーティング、 乾燥、焼成、冷却の各工程の詳細な条件設定並びに、工程の省略、 工程フローの変更、工程の保存が任意に出来るプログラムとなっております。 【特長】 ■スピンコーティング、乾燥、焼成をCPUシステムにより、任意に変更可能 ■各工程は、手動、自動、両操作が出来る ■基板形状は丸、角、両方出来る ■スピンコータに液だれ防止が工夫されている ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
生産用装置としての実績に基づく各種運転プログラムの組み込み易さの向上を実現しました
『TLR-12』は、安定した炉と制御系を搭載した磁性薄膜作製装置です。 生産用装置としての実績に基づく各種運転プログラムの組み込み易さを 向上。作業者と作業環境を保護するため装置全体をダクト付ケースに 収納しています。 尚、オプションにて液面検出機構の取り付けや、炉口シャッターを プログラム上に組み込むことが可能です。 【特長】 ■作業者と作業環境を保護するため装置全体をダクト付ケースに収納 ■実績を重ねて安定した炉と制御系 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スピンスプレー薄膜作製装置
フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学 阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う（単なる物理吸着ではない）ために強固な付着力が得られます。
