イオン残留量の検証～フラックス種による相違～【共同研究】
洗浄時に気を付けるポイントがわかる！イオン残留課題について！洗浄ノウハウをご紹介
エレクトロニクス市場はEV車やロボット・通信技術の研究開発がますます 進んでおり、新たな接合技術であるシンターも本格的に量産稼働の動きが 見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。 今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の 活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な 存在となります。 また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カリウムを イオン性物質として使用する新型半導体の研究も進められており、 より活性力を高めた新たな活性剤の仕様も見受けられます。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。
- 企業：ゼストロンジャパン株式会社
- 価格：応相談
