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常用温度1000℃以下の連続運転に！石英製棚板により庫内空間を有効利用
『OSK 93TI109』は、管状炉の試料サイズ制限をなくした新たな電気炉です。 石英チャンバ－設計(ドアの内側を含め)により、粉塵による庫内汚染や、 実験中に発生する腐食性ガスによるヒーターの損傷を防ぎ、 実験後庫内の清掃も容易。 マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び 真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。 【特長】 ■常用温度1000℃以下の連続運転に適している ■管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応 ■石英製棚板により庫内空間を有効利用 ■真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、 ろう付け、焼結をサポート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セラミックファイバー製の炉とシリコンカーバイト製の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1350°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテストに最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なシリコンカーバイト製の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
セラミックファイバー製の炉とMoSi2の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1650°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテスト及び焼結に最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なMoSi2の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
セラミックファイバー製の炉とMoSi2の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1550°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテスト及び焼結に最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なMoSi2の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
材料の出し入れが便利な箱型構造を採用しております。空冷システムが装備されており、庫内温度の冷却、上昇を迅速に行うことができます。
最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。
管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です
・常用温度1350°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバー設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。
管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です
・常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバ設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。
4面加熱可能な、スイング式ドア付きの汎用マッフル炉です。
常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 実験室での一般的な加熱用途及び灰化プロセスに適します。 ４面加熱式により速い温度上昇速度と優れた温度均一性を実現。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 本体が軽量な為、設置場所の移動とメンテナンスが容易です。 半導体制御整流回路（SSR）とPID制御により、低ノイズ及び正確な温度制御（±1℃）を実現。 オプションの流量計でガス環境で利用可能
