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高速描画システム - メーカー・企業と製品の一覧

高速描画システムの製品一覧

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電子ビーム高速描画システム

クラスタ化により100WPHも実現可能。ステップアンドショット方式の露光を行います

PARAMでは『電子ビーム高速描画システム』を取り扱っております。 当社が提案する「マルチコラムマルチビーム方式」の製品は、 マトリクス状に形成された微小開口と偏向電極からなるPSAにより PSBを生成するマルチビーム方式を採用し、ステップアンドショット方式の 露光を行います。 そのため、ステージ連続移動方式に比べ、高い描画精度が期待できます。 【特長】 <マルチコラムマルチビーム方式 Multi-axis PSB> ■ピッチ26×33mmで87本のマルチコラムを実現 ■スループットは、描画パターンのサイズ・ピッチに依存:10~16WPH ■クラスタ化により100WPHも実現可能 ■ステージ連続移動方式に比べ、高い描画精度が期待できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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