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半導体製造プロセスに関わる全ての方へ 迅速にプロセス汚染を特定する高い分離性能、確立された手法による分析事例をご紹介
半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって、イオン汚染は腐食、浸食、短絡の原因となる恐れがあるため、大きな懸念です。 イオンクロマトグラフィー（IC）は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と、主要成分を迅速に測定できる効率的な分析手法です。当社のイオンクロマトグラフィーシステムがどのように活用できるかをご紹介いたします。 ※詳細はPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問い合わせください。
高速・高分離カラムを採用！高性能高速イオンクロマトグラフ
『IC-2010』は、高速・高分離カラムを採用し、ハイスループットを実現した 高性能高速イオンクロマトグラフです。 1試料“5分”の高速・高分離で、ハイスループット＆高速多検体処理を実現。 オートサンプラとサプレッサーを搭載し、連続多検体処理かつ高感度測定が 可能なほか、サンプルの自動希釈機能も搭載しています。 【特長】 ■最大250検体の連続多検体処理に対応 ■サンプルの自動希釈機能を搭載 ■自動交換型ゲルサプレッサ方式で高感度分析を実現 ■信頼性の高い測定環境を提供 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
自動燃焼装置を接続して燃焼ガスを分析できるイオンクロマトグラフならハロゲンの微量分析に好適！
燃焼法イオンクロマトグラフィーシステムは、固体や粘性のあるサンプルを燃焼させてガス化し、吸収液に吸収させることによってイオンクロマトグラフで完全自動分析することができます。 燃焼装置もイオンクロマトグラフも全てメトロームから供給しているので、全てPC1台でコントロールできます。
硫黄、ハロゲン、PFAS分析に活躍する燃焼ICシステム
Cindion 燃焼イオンクロマトグラフィーは、腐食性および有毒なハロゲンや硫黄成分を含む固体、液体、ガスサンプルをスクリーニングするために、潜在的に干渉するサンプル成分を除去する不可欠なツールとなっています。 C-ICシステムは、燃焼IC分析を簡便化するように設計されており、必要に応じてアプリケーションの機能を拡張する柔軟性を提供します。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
