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ウェットプロセス装置 - メーカー・企業と製品の一覧

ウェットプロセス装置の製品一覧

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ウェットプロセス装置 K-150/200

ウェットプロセス装置 K-150/200 (塗布、現像、エッチング、剥離、洗浄)

「K」シリーズは新技術・新機能。新ワークへのアップグレードがより簡単・低コストで実現出来る拡張型ウエットプロセッサーです。 レジスト塗布、現像、エッチング、剥離、洗浄と、ウエットプロセスであればどの様な仕様でも製作可能です。 必要とされる機能をお客様との御打合せで作り上げていきますので、過剰スペックではなく、低コストで最適な装置をご提供致します。 また、設計、製造ともに自社で行っておりますので、装置導入後の仕様変更もスピード対応します。

  • その他プロセス制御

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ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』

BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式ウェットプロセス装置】半自動装置

当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■ばらつきが1%未満の均一性 ■設置面積2m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■sic/GaNでプロセス実行可能 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ■抽出可能なプロセスチャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置

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