室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料進呈！】
室温かつ大気圧で薄膜形成！安価な膜原料を使用！即納キャンペーン開催中
室温かつ大気圧環境でガラス薄膜を形成します。リフロー性が高いため凹凸面への薄膜形成に向いています。膜原料のロスが極僅かな上、安価な膜原料で形成可能なのでコスト削減もできます！ガラス代替ポリカへの保護膜形成、携帯電話の画面保護フィルム、親水コーティングなどに最適です。 ※今なら【即納キャンペーン開催中】です！驚きの短納期で薄膜形成装置などの当社装置をご提供いたします。詳しくはカタログをダウンロードください。 【特長】 ・室温かつ大気圧での薄膜形成！ ・リフロー性が高いため凹凸面への薄膜形成に向いています！ ・膜原料のロスが極僅か！安価な膜原料で形成も可能！ 【用途例】 ・ガラス代替ポリカへの保護膜形成！ ・携帯電話の画面保護フィルム！ ・親水コーティング！ ・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング！ ※薄膜形成技術についてや即納キャンペーン詳細については、お問合せまたは、下記よりカタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社魁半導体
- 価格：応相談
