更新日： 集計期間:2025年04月16日～2025年05月13日
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導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理（トライボロジー用途）への応用も可能です。
真空薄膜形成装置。新しい発想のイオンアシスト蒸着装置
【特長】 ●新型制御システムによるオペレータ負荷の軽減 ●排気・成膜速度向上による生産時間の短縮 ●新型光学膜厚計と新型モニターガラス機構により、 膜再現性が向上 ●コンパクトな配置を実現
取り外し・自動運転が可能な強力排気と粉末分離システム！
SPD薄膜形成装置KM-300は、300mm角基板に対応しており、短時間で均一な成膜をするために、 特別なスキャニングパターンを持つ三つのスプレーノズルを使用しています。 下方向への強力排気と粉末分離システムで、取り外して洗浄、または自動運転が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。
真空薄膜形成や装置についてまとめた小冊子、差し上げます。
この資料は、真空薄膜形成装置を利用して薄膜を作製する方々を対象に、 ■真空とはどのようなものか ■真空を利用した薄膜形成技術にはどのようなものがあるのか ■薄膜とはどのようなものか ■薄膜形成に用いる装置はどのようなものか ■真空装置を使用するにあたって注意すること ■日常のメンテナンスについて 等 真空薄膜形成をする上での基本事項が書かれています。 この資料をお読みいただき、真空薄膜形成装置の性能を 最大限に活用していただければ幸いです。 〜資料をご希望の方は 「資料請求」 からお願い致します〜 ※シンクロンの真空薄膜形成装置ラインナップについては 「ダウンロード」 からご確認下さい。
室温・大気圧環境でガラス薄膜を形成！
室温、大気圧環境でガラス薄膜の形成が可能となりました。 携帯電話の保護フィルムからガラスまで、幅広い対象物へ処理可能です。 少ない塗料でも効率のいい塗装も可能！
蒸着 スパッタでは困難な 高曲率レンズ，ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） ※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機構付属
