高温クリーンガス加熱装置『Jet II』
最高900℃のクリーン過熱水蒸気の発生が可能！
『Jet II』は、加熱ガス接液部を高純度石英ガラスにすることにより、 金属イオン、TOC等の溶出を極限まで抑えたクリーン加熱ガスを 発生させることができる高温クリーンガス加熱装置です。 また本装置は、最高900℃の各種クリーンガス及びクリーン過熱水蒸気を 発生させることができます。 【特長】 ■発熱体(SiC)は赤外線ランプ集光加熱器により1000℃まで高速超高温加熱が可能 ■ガス接液部は全て石英ガラスであり、不純物の溶出のないガス加熱が可能 ■金属では腐食するような酸・アルカリ溶液をベーパーにすることが可能 ※薬液種類、濃度にもよる ■最高900℃の加熱ガスを発生させることが可能 ■100℃の水蒸気を最高900℃の過熱水蒸気に再加熱が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
- 企業：ワイエイシイメカトロニクス株式会社 つくば事業所 PV事業部
- 価格：応相談
