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最終更新日:2020年11月19日

ワイエイシイメカトロニクス株式会社 つくば事業所 PV事業部
ワイエイシイメカトロニクス株式会社 つくば事業所 PV事業部
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最高900℃のクリーン過熱水蒸気の発生が可能!

『Jet II』は、加熱ガス接液部を高純度石英ガラスにすることにより、 金属イオン、TOC等の溶出を極限まで抑えたクリーン加熱ガスを 発生させることができる高温クリーンガス加熱装置です。 また本装置は、最高900℃の各種クリーンガス及びクリーン過熱水蒸気を 発生させることができます。 【特長】 ■発熱体(SiC)は赤外線ランプ集光加熱器により1000℃まで高速超高温加熱が可能 ■ガス接液部は全て石英ガラスであり、不純物の溶出のないガス加熱が可能 ■金属では腐食するような酸・アルカリ溶液をベーパーにすることが可能  ※薬液種類、濃度にもよる ■最高900℃の加熱ガスを発生させることが可能 ■100℃の水蒸気を最高900℃の過熱水蒸気に再加熱が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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高温クリーンガス加熱装置『Jet II』

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基本情報

【ラインアップ】 ■Jet II-6 ■Jet II-12 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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用途/実績例

【用途】 ■クリーンガス加熱装置として ■高温クリーン過熱水蒸気発生装置として ■高温流体の再加熱装置として ■反応ガス加熱装置として ■IPAベーパー発生装置として ■酸・アルカリ溶液のベーパー発生装置として ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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当社は、3つの事業部により構成されており、世界シェア約100%の ハードディスク用バーニッシャー装置、半導体向けテストハンドラ、 外観検査装置、各業界向け自動化装置、世界トップクラスシェアの 高発電効率太陽電池ウエハ用テクスチャリング装置、各種精密洗浄装置、 乾燥装置等を製造しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

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