ガス加熱装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ガス加熱装置 - メーカー・企業6社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年08月27日~2025年09月23日
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ガス加熱装置のメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:2025年08月27日~2025年09月23日
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  1. 株式会社フィルテック  本社 東京都/機械要素・部品
  2. 日本化学機械製造株式会社 本社 大阪府/その他製造
  3. 株式会社オーエスユー 大阪府/教育・研究機関
  4. 株式会社リンテック 東京営業所 東京都/機械要素・部品
  5. 5 新熱工業株式会社 本社 茨城県/産業用電気機器

ガス加熱装置の製品ランキング

更新日: 集計期間:2025年08月27日~2025年09月23日
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  1. 小型なのに高熱に!高効率小型ガス加熱器『ヒートビームシリンダー』 株式会社フィルテック  本社
  2. 空気・各種ガス加熱装置『プロセスヒータ』 日本化学機械製造株式会社 本社
  3. 急速ガス加熱器「NOC Gas Heater」 株式会社オーエスユー
  4. 小型ガス加熱器 HX series 株式会社リンテック 東京営業所
  5. 4 【解決事例】クリーンホット 新熱工業株式会社 本社

ガス加熱装置の製品一覧

1~6 件を表示 / 全 6 件

表示件数

空気・各種ガス加熱装置『プロセスヒータ』

熱効率は80%以上出る構造!排ガス熱回収の利用により省エネルギー化がはかれる

『プロセスヒータ』は、重油・灯油・ガス燃料を燃焼させて空気・蒸気 あるいは各種工業用ガスを間接・直接的に高温度に加熱する装置です。 輻射と対流伝熱を有効に利用し最大限の能力が出せる構造。 据付面積が小さく空間が有効に利用でき、バーナ部にレインシェルタを 取付ければ屋外に設置可能です。 【特長】 ■優れた熱光学理論による設計 ■装置のコンパクト設計 ■省エネルギー化 ■低NOx化 ■優れた耐久性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他ヒータ

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急速ガス加熱器「NOC Gas Heater」

大型機同等の接触面積と接触時間を保持したまま、小型化に成功。僅か0.6Lの容器内にガスを通すだけで瞬時に500℃まで昇温。

気体の高温化は液体や固体に比べて熱伝導率が低い為、容易ではありません。 そのため今までのガス加熱機は大型化せざるを得ませんでした。 オーエスユーはこの難問に挑戦し新しい発想で解決。 今までに無い急速ガス加熱器です。是非一度お試しください。 【特長】 ■優れた熱交換機能 ■円筒形状で小型軽量 ■500℃まで瞬時にガス加熱可能 ■任意温度の設定可能 ■耐腐食性 ■ガス種を問わない気体加熱 ■2種以上のガスをいれた場合、加熱と同時に乱流による均一混合も可能 ※レンタルも行っておりますので詳細はご相談ください

  • 加熱装置

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小型ガス加熱器 HX series

低圧損、クリーン構造の小型ガス加熱器です

低圧損構造にも関わらずMax300℃まで加温可能な小型ガス加熱器です。 【特長】 ○圧力損失を低減することで流量制御後にも設置が可能 ○オールメタルシールのクリーン構造 ○接ガス部材質はSUS316L ○異常加熱検出用サーマルスイッチ内蔵 ○熱電対内蔵 ○コンパクトサイズでありながらMax300℃の加熱が可能 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

  • 真空機器
  • 加熱装置

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【解決事例】クリーンホット

ガスの流れを工夫!外装側の温度が上がらないガス加熱器を開発した解決事例をご紹介

新熱工業が解決した事例をご紹介します。 工場内のクリーンルームで使用するため、塵や埃の原因になる断熱材を 用いないガス加熱器が欲しいとお客様よりご要望がありました。 断熱材を使わなければ、熱が逃げてしまうため、効率が悪くなるという 問題点。 そこで、ガスの流れを工夫し、外装側の温度が上がらないガス加熱器を 開発しました。 【事例】 ■問題点  ・断熱材を使わなければ、熱が逃げてしまうため、効率が悪くなる  ・根本的に外装が高温になってしまい、火傷の危険性が生じてしまう ■解決策  ・ガスの流れを工夫し、外装側の温度が上がらないガス加熱器を開発  ・容器内には複雑に曲げ処理を施したヒーターが仕込まれている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 加熱装置
  • その他ヒータ

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小型なのに高熱に!高効率小型ガス加熱器『ヒートビームシリンダー』

最高1000℃付近まで温度をあげる事が可能!本体寸法11センチからの小型熱交換器です※デモ機貸し出しOK

『ヒートビームシリンダー』は、小型でありながら、ガスや液体等の流体を 効率よく、瞬時に高温に加熱し、最高1000℃付近まで温度をあげる事が可能です。 クリーンな加熱方法なので、プロセスガスの加熱に適しています。 窒素を加熱して生成した高温N2を半導体製造装置の排気ラインに用いると 反応生成物の付着を防止できます。また水を直接加熱して過熱水蒸気発生装置と することができ、様々な用途での使用が期待されます。 【特長】 ■900℃以上の過熱水蒸気を発生するので広い分野で使用が可能 ■コンパクトなサイズだから、ユースポイントの近くで過熱水蒸気を発生できる ■水から直接 過熱水蒸気の生成も可能であり、ボイラーが不要 ■自由な配置・組み合わせができるので並列、直列、縦置、横置、装置直結も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他環境機器

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高温クリーンガス加熱装置『Jet II』

最高900℃のクリーン過熱水蒸気の発生が可能!

『Jet II』は、加熱ガス接液部を高純度石英ガラスにすることにより、 金属イオン、TOC等の溶出を極限まで抑えたクリーン加熱ガスを 発生させることができる高温クリーンガス加熱装置です。 また本装置は、最高900℃の各種クリーンガス及びクリーン過熱水蒸気を 発生させることができます。 【特長】 ■発熱体(SiC)は赤外線ランプ集光加熱器により1000℃まで高速超高温加熱が可能 ■ガス接液部は全て石英ガラスであり、不純物の溶出のないガス加熱が可能 ■金属では腐食するような酸・アルカリ溶液をベーパーにすることが可能  ※薬液種類、濃度にもよる ■最高900℃の加熱ガスを発生させることが可能 ■100℃の水蒸気を最高900℃の過熱水蒸気に再加熱が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

  • 加熱装置

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