多結晶シリコンSiポリシリコンターゲットN型P型NonDope
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
■純度>99.999％ ■密度（2.33/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
スパッタリングターゲット材 - メーカー・企業と製品の一覧
スパッタリングターゲット材の製品一覧
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ITO (90:10; 95:5; 97:3)低密度タブレットも
透明電極としてや画面の視覚情報を損なわずに画素を制御するために使用可能な酸化物！
■酸化物ターゲット ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
スパッタリングターゲット材
スパッタリングターゲット材について
スパッタリングターゲットは、 Cr,Ti,CrAl,WC、その他多種類の材料を取り揃えており、 形状・寸法につきましても丸状、板状、棒状など お客様のニーズにより対応致しますので、ご要望をお待ちしております。
- 企業：株式会社エムアンドシー
- 価格：応相談
