スパッタリング成膜装置 - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

R&DクラスターPVD装置（強磁性体・合金・誘電体成膜）

スパッタ膜と蒸着膜の多層成膜

強磁性体や強誘電体の新規材料開発においては、組成制御および結晶配向性の制御が極めて重要です。本装置は、最大4カソードのコンフォーカルスパッタ方式（スパッタ・アップ/ダウン）を採用することにより、これら機能性材料の物性探索に非常に有用な成膜環境を提供します。また、自動ロードロックとトランスファーチャンバーを備え、電子ビーム蒸着源（6 kW・4つのるつぼ）にも対応しており、PC制御による自動／半自動運転によって、共スパッタや多材料成膜が効率的に実行可能です。 特に強磁性体材料の成膜においては、ターゲット使用効率が低い強磁性体ターゲット（Fe, Co とりわけ高純度純鉄 3N5–4N）が研究開発の効率を阻害する課題として知られています。本装置では、ターゲット表面磁場が非常に大きいカソードを採用することによってこの問題を解決し、純鉄ターゲットを含む強磁性材料の成膜効率向上を実現しています。これにより、材料探索から試作研究まで、R&D向け薄膜成膜装置として高い性能と柔軟性を発揮します。