スピン洗浄装置
RCA洗浄に代わり薬液を使わない洗浄
当社では、薬液不使用の為、一般的な規模の排水処理設備が不要な 『スピン洗浄装置』を取り扱っております。 化学火傷などの皮膚刺激が無い為、作業環境が改善。 また、洗浄性・すすぎ性が高い為、純水使用量を低減可能です。 【特長】 ■排水処理負荷低減 ■作業環境改善 ■純水使用量低減 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社フクシマ 長野本社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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RCA洗浄に代わり薬液を使わない洗浄
当社では、薬液不使用の為、一般的な規模の排水処理設備が不要な 『スピン洗浄装置』を取り扱っております。 化学火傷などの皮膚刺激が無い為、作業環境が改善。 また、洗浄性・すすぎ性が高い為、純水使用量を低減可能です。 【特長】 ■排水処理負荷低減 ■作業環境改善 ■純水使用量低減 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除くことが可能!省スペースなので研究開発に好適
各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ4” φ6”~φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
《新型》社内デモ機でさまざまなサイズや基板種、デバイスパターン状態に対応!好適な形にカスタマイズ
本装置は、40KHz帯の[ホーン型超音波]、[BLT型超音波]に加え、 [高圧ジェットノズル]、[スプレーノズル]等の多種多様なツールを 搭載し各種基板表面状態に応じた有機剥離リフトオフのデモに対応します。 社内デモ機で様々なサイズや基板種、デバイスパターン状態に対応。 そして得られた各種知見・ノウハウを盛り込み、好適な形に カスタマイズされた実装置化を行います。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、枚葉基板洗浄機、枚葉スピン洗浄機、表面処理、薄ウエハ、絶縁膜、高圧ジェット洗浄機、基板クリーニング装置、ロードロック室、ガラス搬送、ガラス基板、ウエハ洗浄機
高速なクリーンテクノロジーで、多種多様化する洗浄ニーズにお応えします!
『スピン洗浄装置』は、島田テクノロジー株式会社が取り扱っている製品です。 「水とエア」を中心とした環境配慮型洗浄を採用。全周型排気カップ構造による 高効率排気も実現しています。 また、多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現。さらに、ウェーハ型・角型基板に 対応したハンドリング、幅広いサイズに対応したユニットラインアップを ご用意しています。 【特長】 ■高性能化で省エネに貢献 ■多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現 ■多彩なサイズ・基板にもマッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除くことが可能!省スペースなので研究開発に好適
各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ4” φ6”~φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。