【CMP用テストウエハ】3D ILD Pattern wafer
CMP研究・開発用途に大変有用！ 高段差のパターンも用意あり
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があり、 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社
- 価格：応相談
