ナノインプリント装置
繰り返し精度=20nm!!!
UV式/熱硬化式 300mmウエハー対応の装置です。 金型の平行出し、加圧、UV照射、離型し、高精度繰り返し位置決め精度にて ステップ&リピートし、リソグラフィーの代替パターニングとして (テラバイト光ディスク、LED、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等)に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度 繰り返し精度=20nm
- 企業:株式会社清和光学製作所
- 価格:応相談
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繰り返し精度=20nm!!!
UV式/熱硬化式 300mmウエハー対応の装置です。 金型の平行出し、加圧、UV照射、離型し、高精度繰り返し位置決め精度にて ステップ&リピートし、リソグラフィーの代替パターニングとして (テラバイト光ディスク、LED、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等)に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度 繰り返し精度=20nm