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半導体部品の鏡面研磨加工へ導入実績有り！マイクロバブル発生ノズル60L/min
【マイクロバブル発生ノズル60L/min活用事例のご紹介】 ループ流マイクロバブル発生ノズル・60mlが、半導体部品の鏡面研磨加工に導入されました！ 使用したのは特注60L/minノズルです。 今後、世界的にマイクロバブル発生ノズルが研磨関係に使用されるかもしれません。 ＊マイクロバブル発生ノズルは、家庭用から農業、漁業、工業的分野等で利用されるオゾン発生装置です。 機能性、シンプルさ、価格に優れており、様々な場面でマイクロバブルが活躍しています。
洗浄できている面積割合が、92％に到達することを明らかにした事例のご紹介です！
シリコンウエハー洗浄のメカニズムに関する事例をご紹介します。 ウルトラファインバブルの内部が高圧になる特性を利用して、 圧力波により固体表面の微粒子を除去する効果を実験的に検証。 1ミクロン以上の微粒子が除去され観察されなくなったこと、また、 洗浄できている面積割合が、92％に到達することを明らかにしました。 【洗浄効果】 ■洗浄前：359～472um2 ■超純水洗浄後：320～482um2 ■超純水ジェット＋ウルトラファインバブル洗浄後 ・1000倍画像：28.65um2 ・3000倍画像：37.33um2 ※事例の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
