1～4 件を表示 ／ 全 4 件
ナノメートル精度の位置決めを、コンパクトかつ高コストパフォーマンスで実現
半導体業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高い精度が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。従来のシステムでは、大型化や高コストが課題となっていました。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、設置面積わずか44 x 44mmのコンパクト設計でありながら、最大120μmのストロークと0.2nmの分解能を実現し、半導体製造における精密位置決めを低コストで実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・装置の小型化による省スペース化 ・低コスト化による投資対効果の向上
低価格・コンパクト設計で顕微鏡の走査をサポート
顕微鏡の走査用途では、高精度な位置決めと安定性が求められます。特に、微細構造の観察や画像取得においては、ナノレベルの正確な位置制御が不可欠です。位置決めの精度が低いと、観察対象を見逃したり、画像の解像度が低下する可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、コンパクト設計と高精度な位置決め性能により、顕微鏡の走査用途に最適です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・走査型顕微鏡 ・試料の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・コンパクト設計による設置スペースの有効活用 ・低コストでの導入
従来のモーターステージでは実現できないナノ精度組立に最適
精密機械組立の現場では、部品の正確な位置決めが製品の品質を左右します。特に、微細な部品の組み立てにおいては、高精度な位置決めが求められます。位置決めの精度が低いと、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、低価格でありながら、44 x 44mmのコンパクト設計ながら、0.2 nmの分解能と最大120 µmのストロークを実現。ピエゾアクチュエータによる高速応答により、ナノスケールでの高精度かつ安定した位置決めを可能にし、微細組立工程の高度化に貢献します。 【活用シーン】 ・微細部品の精密な位置決め ・小型部品の高速組立 ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・組立精度の向上 ・不良率の低減 ・組立時間の短縮
44 mm角のコンパクト設計。120 µm動作量と0.2 nm分解能を実現するピエゾナノポジショニングステージ
半導体製造工程では、ウェーハ加工や検査工程においてナノメートルレベルの精密な位置決めが求められます。特に微細化が進む半導体プロセスでは、位置決め精度が製品品質や歩留まりに大きく影響します。 P-611.XZ / P-611.2は、44 mm × 44 mmのコンパクトな設計ながら、最大120 µmの動作量と0.2 nmの高分解能を実現するピエゾナノポジショナーです。高精度フレクシャガイド機構とPICMA(R)ピエゾアクチュエータにより、半導体製造装置や検査装置における安定したナノポジショニングを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査装置 ・ナノ加工・微細加工装置 ・光学アライメント装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの位置決めによる歩留まり向上 ・高精度ポジショニングによる検査精度向上 ・コンパクト設計による装置組込みの容易化 ・高い再現性による安定したプロセス制御
