《新型》スピンスクラブ自動洗浄装置 （CMP後・研磨後洗浄）
量産現場向け 高信頼性自動スクラブ洗浄装置
■「CMP後や研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」としての量産現場に最適 ■マスクのコンタクト露光時に付着した「レジスト除去」にも対応可能 ■2-チャンバー構成で1.8分/枚にも対応実績有り ■「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等のオプション対応が可能 ■ベベル部汚れには「高圧Jet」「DIW2流体」で対応 ■裏面コンタミフリーを基本コンセプト ◎真空チャックはコンタクト部の汚染があるため基本使いません ◎裏面リンス機能は標準搭載です。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくか、気軽にお問い合わせ下さい。 ※類似機種の《フォトマスク洗浄機》カタログも参照ください。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、基板クリーニング装置、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、搬送装置
- 企業：株式会社ソフエンジニアリング
- 価格：応相談
