量産現場向け 高信頼性自動スクラブ洗浄装置
■「CMP後や研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」としての量産現場に最適 ■マスクのコンタクト露光時に付着した「レジスト除去」にも対応可能 ■2-チャンバー構成で1.8分/枚にも対応実績有り ■「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等のオプション対応が可能 ■ベベル部汚れには「高圧Jet」「DIW2流体」で対応 ■裏面コンタミフリーを基本コンセプト ◎真空チャックはコンタクト部の汚染があるため基本使いません ◎裏面リンス機能は標準搭載です。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくか、気軽にお問い合わせ下さい。 ※類似機種の《フォトマスク洗浄機》カタログも参照ください。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、基板クリーニング装置、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、搬送装置
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企業情報
＊各種デバイスの製造プロセスに精通した技術集団の元、創立以来長年にわたり蓄積された各種ノウハウに裏打ちされた顧客先様の多様なニーズに対応した特徴のあるウェット系処理装置のカスタム開発・製造・販売、そしてアフターフォローまでの一貫した自社活動を行っております。 ＊顧客先様ニーズに合わせ、プロセス提案もしながら最適なシステム装置を製造・販売いたします。 ＊弊社はバッチ（ウェットステーション）、枚葉（コンベアー、スピン）等々、各種装置形態に精通しており実績も多々ございますが、特にSpin枚葉系の装置に大きな特徴があります。 ＊「特許」や「商標」を取得成立し、他社に真似ができないことは勿論、多種多様の特長が多々ある《Spin Dipプロセッサー》と《UDSプロセッサー》にワールドワイドの注目が集まっております。
