上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。
■「試作開発」「手洗い洗浄の代替」「省力化」「品質向上」等に最適です。 ■手洗い洗浄とは異なり、ばらつきの無いハイレベルな表面品質が得られます。 ■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成 ◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理 ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 ◎Maxサイズ：Φ20mm、6インチ角 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」 ◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載。 ◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去性能 ◎ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態に応じて選択 ■<洗剤の自動希釈ユニット>や<CO2イオナイザー>のオプション選択が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
＊各種デバイスの製造プロセスに精通した技術集団の元、創立以来長年にわたり蓄積された各種ノウハウに裏打ちされた顧客先様の多様なニーズに対応した特徴のあるウェット系処理装置のカスタム開発・製造・販売、そしてアフターフォローまでの一貫した自社活動を行っております。 ＊顧客先様ニーズに合わせ、プロセス提案もしながら最適なシステム装置を製造・販売いたします。 ＊弊社はバッチ（ウェットステーション）、枚葉（コンベアー、スピン）等々、各種装置形態に精通しており実績も多々ございますが、特にSpin枚葉系の装置に大きな特徴があります。 ＊「特許」や「商標」を取得成立し、他社に真似ができないことは勿論、多種多様の特長が多々ある《Spin Dipプロセッサー》と《UDSプロセッサー》にワールドワイドの注目が集まっております。
