フォトレジスト用ノボラック樹脂
高度な分子量制御を行い、金属含有量を100ppb以下のレベルまで低減した、フォトレジスト用樹脂のご紹介
フェノール樹脂の合成技術を応用しフォトレジスト用樹脂を製造しております。 当社のフォトレジスト用樹脂は非常に高度な分子量制御を行い、お客様の要求に応じたさまざまな樹脂を的確に再現性良く製造することが可能です。 さらに100ppbを大幅に下回る低メタル化を実現しております。 ※関連リンク先から資料のダウンロードが可能です。
- 企業：旭有機材株式会社 樹脂事業部 電子材料部
- 価格：応相談
