枚葉式半導体ウエハの洗浄装置例
メガチューブ＆スポット型シャワーを使用した両面洗浄、表面洗浄とエッジの同時洗浄装置
メガチューブとスポットシャワーを半導体ウエハの枚用装置に搭載しました。 チャンパー内の狭いスペースにも振動子２台の設置が可能で、表面と裏面・エッジを同時に高清浄度に洗浄することが可能です。 ※以下で動画を確認いただけます。
半導体ウェハ洗浄機 - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり
半導体ウェハ洗浄機の製品一覧
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バッジ式半導体ウエハの洗浄装置例
クオーバ＆ハイメガソニックを使用した半導体ウエハ洗浄装置
半導体ウエハの石英槽を用いた間接洗浄にクオーバやハイメガソニックが用いられています。特にハイメガソニックは高洗浄力や機能が評価され、1986年の出荷以来、世界中で使用され御好評をいただいております。 またクオーバは先進のダメージ低減機能を搭載しています。
半導体ウエハ洗浄装置【一品一様でカスタマイズ対応可能】
ワークサイズ2~12インチのウエハにも対応。枚葉式スピン・多槽式ウエハ・両面スクラブ・薬液スクラブ洗浄装置の説明資料4点を進呈。
当社は、半導体をはじめ、MEMS、化合物等、幅広い分野のウェットプロセス処理で豊富な経験があり、 ユーザーのニーズに合わせた適切なカスタム装置を提供します。 また、薬液供給装置など各種付帯設備の設計、製造も承ります。 【ダウンロード資料内容】 ■枚葉式スピン洗浄装置（量産対応・少量生産対応） ■多槽式ウエハ洗浄装置（量産対応・少量生産対応） ■両面スクラブ洗浄装置（量産対応・少量生産対応） ■薬液スクラブ洗浄装置（少量多品種生産対応） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社LC 立川本社、青梅工場
- 価格：応相談
