卓上スピン洗浄装置
上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。
■「試作開発」「手洗い洗浄の代替」「省力化」「品質向上」等に最適です。 ■手洗い洗浄とは異なり、ばらつきの無いハイレベルな表面品質が得られます。 ■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成 ◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理 ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 ◎Maxサイズ：Φ20mm、6インチ角 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」 ◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載。 ◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去性能 ◎ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態に応じて選択 ■<洗剤の自動希釈ユニット>や<CO2イオナイザー>のオプション選択が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ソフエンジニアリング
- 価格：応相談
