アルカリ対応スピン洗浄装置
有機EL基板洗浄に最適!アルカリ対応スピン洗浄装置
本装置はワークを本体に手動でセットし、真空吸着させスピン回転させながら二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。
- 企業:マック産業機器株式会社 テクノロジーセンター
- 価格:1000万円 ~ 5000万円
更新日: 集計期間:2025年08月20日~2025年09月16日
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有機EL基板洗浄に最適!アルカリ対応スピン洗浄装置
本装置はワークを本体に手動でセットし、真空吸着させスピン回転させながら二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。
限られたスペースを有効活用!卓上型自動スピン洗浄機です。
本装置は、対象ワークを手動にてセットしスピン回転により超音波洗浄、純水リンスエアーブロー乾燥を行う卓上型自動スピン洗浄機です。
クリーンユニット搭載の自動スピン洗浄装置
オプション内容を選んで頂くクリーンユニット搭載のカセット式自動装置(写真はスクラブ洗浄+UV洗浄+ホットプレート) =============================================== <仕 様> ワークサイズ…Φ2インチ〜Φ8インチ 搬送…大気3軸クリーンロボット クリーンユニット…HEPAフィルター 洗浄…ブラシ、MS標準装備 オプション…高圧ジェットノズル、UV、エキシマ、ホットプレート等 ユーテリティ…電源、圧空、窒素、純水、排気、廃液、他
シンプルデザインの手動スピン洗浄装置
シンプルデザインの多目的応用手動装置 ==================================== <仕 様> ワークサイズ…Φ2インチ〜Φ6インチ 洗 浄…ディスクブラシ、1.1MS標準装備 オプション…高圧ジェットノズル、薬液ノズル等 電源…AC100v or 200v CDA.…0.5MPA.以上 純水…0.2MPA.以上 その他 恒温水槽内
ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置
オプションでオゾン水(20ppm)やエキシマUV、大気圧プラズマとの組み合わせも可能です。 その他、ULPA/HEPAユニット、薬液供給ユニットとの組み合わせなど汎用性に優れております。
RCA洗浄に代わり薬液を使わない洗浄
当社では、薬液不使用の為、一般的な規模の排水処理設備が不要な 『スピン洗浄装置』を取り扱っております。 化学火傷などの皮膚刺激が無い為、作業環境が改善。 また、洗浄性・すすぎ性が高い為、純水使用量を低減可能です。 【特長】 ■排水処理負荷低減 ■作業環境改善 ■純水使用量低減 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除くことが可能!省スペースなので研究開発に好適
各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ4” φ6”~φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
ブラシ洗浄、超音波洗浄、リンス洗浄、N2ブロー乾燥の処理を行う装置です!
省スペースで、両面洗浄可能なメカグリップ機構の枚葉式スピン洗浄装置です。 メンテナンスが容易で高速、スピン乾燥、N2乾燥、によりウオーターマークを軽減します。(特許第3558543)
フルオートマティックスピン洗浄装置 300mm/8インチウエハー、ガラス
本装置は、ウエハーカセットを本体に手動でセットし、収納されている対象ワークをロボットでスピン洗浄部に送り、スピン回転させながら二流体洗浄・超音波洗浄・N2ブロー乾燥の処理を行い、再びウエハーカセットに収納する装置です。
スピン回転により洗剤(界面活性剤等)でブラシ洗浄します。
「小型スピン洗浄装置 ME-510」は対象ワークを手動にてセットし、スピン回転により洗剤(界面活性剤等)でブラシ洗浄し、純水リンス洗浄、エアブロー乾燥の処理を行うマニュアルスピンナーです。対応回転数はMAX3000rpm、対応試料サイズは30~150角、PETフィルム及びガラスとなっています。ブラシ部はブラシ昇降、旋回、ブラシ回転、洗剤供給を行い、純水供給部はエアシリンダーによる旋回、純水供給を行います。本体サイズはW650xD800xH710でアルミフレームになります。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。
■「試作開発」「手洗い洗浄の代替」「省力化」「品質向上」等に最適です。 ■手洗い洗浄とは異なり、ばらつきの無いハイレベルな表面品質が得られます。 ■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成 ◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理 ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 ◎Maxサイズ:Φ20mm、6インチ角 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」 ◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載。 ◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去性能 ◎ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態に応じて選択 ■<洗剤の自動希釈ユニット>や<CO2イオナイザー>のオプション選択が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
《新型》社内デモ機でさまざまなサイズや基板種、デバイスパターン状態に対応!好適な形にカスタマイズ
本装置は、40KHz帯の[ホーン型超音波]、[BLT型超音波]に加え、 [高圧ジェットノズル]、[スプレーノズル]等の多種多様なツールを 搭載し各種基板表面状態に応じた有機剥離リフトオフのデモに対応します。 社内デモ機で様々なサイズや基板種、デバイスパターン状態に対応。 そして得られた各種知見・ノウハウを盛り込み、好適な形に カスタマイズされた実装置化を行います。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、枚葉基板洗浄機、枚葉スピン洗浄機、表面処理、薄ウエハ、絶縁膜、高圧ジェット洗浄機、基板クリーニング装置、ロードロック室、ガラス搬送、ガラス基板、ウエハ洗浄機
高速なクリーンテクノロジーで、多種多様化する洗浄ニーズにお応えします!
『スピン洗浄装置』は、島田テクノロジー株式会社が取り扱っている製品です。 「水とエア」を中心とした環境配慮型洗浄を採用。全周型排気カップ構造による 高効率排気も実現しています。 また、多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現。さらに、ウェーハ型・角型基板に 対応したハンドリング、幅広いサイズに対応したユニットラインアップを ご用意しています。 【特長】 ■高性能化で省エネに貢献 ■多彩な洗浄ツールによる高歩留まりを実現 ■多彩なサイズ・基板にもマッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除くことが可能!省スペースなので研究開発に好適
各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ4” φ6”~φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研究開発や小ロット生産に対応
『薬液スクラブスピン洗浄装置』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて適した装置構成をご提案可能です。 【特長】 ■各種洗浄方法・薬液を組み合わせ可能 ■研究開発用途や小~中規模の現場に対応 ■SiC、GaN、LTなどの小径ウェハ、 パワー半導体の新素材を開発・生産している現場にも好適 ■対応ウェハサイズ:3インチ~6インチ(8~12インチも別途ご相談により対応) ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。