ウエハー マスク 枚葉スピン洗浄装置
オプションでオゾン水（20ppm）やエキシマUV、大気圧プラズマとの組み合わせも可能です。 その他、ULPA/HEPAユニット、薬液供給ユニットとの組み合わせなど汎用性に優れております。
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基本情報
Ｒ＆Ｄ用途に最適な コンパクトなスピン洗浄装置です。 チャックテーブルの交換により 多種多様な基板を洗浄できます。 ＜主な仕様＞ 対応ワークサイズ ウエハ φ8インチ（MAX） マスク 6025（MAX） 純水リンス、ブラシ洗浄、 メガソニック洗浄（または2流体洗浄） N2ガスブロー、スピン乾燥（MAX2000rpm） シーケンサコントロール タッチパネル（GOT）にて簡単操作 レシピ機能（20種類30ステップ） 各処理時間、動作をタッチパネルより設定可能 （スイング幅、速度、スピン回転数、etc）
価格情報
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納期
用途／実績例
受け入れ洗浄 露光前洗浄 ディスク洗浄 スタンパー洗浄 パーティクル除去 有機物除去 CMP後洗浄 バックグラインド後洗浄 MEMS
企業情報
株式会社カナメックスは設立以来、半導体業界における、フォトリソ関連のウェット処理プロセス装置の設計・製作をしてまいりました。今日のエレクトロニクス業界は半導体前工程／先端実装技術／FPD分野において、デバイス基板はますます薄型化、大型化、高次元化し、さらに高機能化するデバイスの製造プロセスに対応する創造性のある製造装置が求められています。 弊社は、このような業界のニーズに対応する為、常にお客様と共にあり、顧客満足度の向上を図り、常に研究開発マインドを持ち続け、業界のニーズに合った製品とサービスを提供できるよう創造性のある技術を構築します。そして、活性化のある企業活動を経営理念とし、社会の発展に貢献できるよう努力してまいります。
