リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能
AGV対応、ケミカル処理、リンス、乾燥する大型マスク洗浄装置です。反転機構により両面洗浄も可能です。
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基本情報
【特徴】 ■塗布、現像、エッチング、剥離、洗浄の各プロセスに対応 ■ レジスト残渣／有機物残渣の剥離洗浄 ■ 金属粒子や研磨、ダイシング後などの粒子除去洗浄 ■ 固着微粒子、吸着微粒子の除去洗浄 ■ 受け入れ洗浄、各種工程間の洗浄（成膜前、露光前、剥離後、エッチング後、 バックグラインド後など）パーティクル除去、ファイナル洗浄 ■ 表面改質洗浄 ■ ベベル、端面洗浄など □その他詳細についてはカタログをご覧ください
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企業情報
株式会社カナメックスは設立以来、半導体業界における、フォトリソ関連のウェット処理プロセス装置の設計・製作をしてまいりました。今日のエレクトロニクス業界は半導体前工程／先端実装技術／FPD分野において、デバイス基板はますます薄型化、大型化、高次元化し、さらに高機能化するデバイスの製造プロセスに対応する創造性のある製造装置が求められています。 弊社は、このような業界のニーズに対応する為、常にお客様と共にあり、顧客満足度の向上を図り、常に研究開発マインドを持ち続け、業界のニーズに合った製品とサービスを提供できるよう創造性のある技術を構築します。そして、活性化のある企業活動を経営理念とし、社会の発展に貢献できるよう努力してまいります。
