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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能です
『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能 ■アルカリタイプの水溶性洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます
『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます。 【特長】 ■レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環 あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れる ■「アンラスト ROS」の改良品 ■塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが殆どない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法 危険物第四類第1石油類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使用できます
『マストーバSC』は、カルシウムやマグネシウム由来のスケール洗浄液です。 配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく 使用可能。 電子工業などで使用されています。 【特長】 ■カルシウムやマグネシウム由来のスケール洗浄液 ■SUS304や塩ビへの影響がなく使用可能 ■電子工業などで使用 ■容量・荷姿は20kg缶/ドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
結晶化したシリカ系スケール除去に！青色ジェルなので拭き残しが一目で分かる
『マストーバ MIS-3b』は、シリカ系スケールの除去に使用できる 工業用洗浄剤です。 結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去します。 粘度の高いジェルタイプなので、壁面等に直接塗布することが可能です。 （用途に応じて粘度の調節可能） また、青色ジェルのため、拭き残しが一目で確認できます。 【特長】 ■結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去できる ■粘度の高いジェルタイプ ■壁面等に直接塗布することが可能 ■青色ジェルのため、拭き残しが一目で分かる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
