成膜・熱処理装置ラインナップ
半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した装置ラインナップ!
SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。
- 企業:株式会社イオンテクノセンター
- 価格:応相談
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半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した装置ラインナップ!
SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。