卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
Arradiance社製卓上型ALD装置 卓上型ながらプラズマユニットも装備可能 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuなど成膜が可能
テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度 低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き 試料ステージは直径200mm基板まで選択可能 450℃加熱ステージも選択可能 Arradiance GEMFlowソフトウェアは、 扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。 温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、 真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。 診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能 RGIP（Reactor Gas Injection Protocol）について ガスポート監視インターロック機能を備えています。
- 企業：株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）
- 価格：応相談
