残留性検証×ゼストロンジャパン株式会社 - 企業1社の製品一覧

【共同研究】活性剤の洗浄性低スタンドオフ部の残留性検証

リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因！洗浄ノウハウをご紹介

はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している日本市場ではありますが、様々な課題が生じるケースが増加しており、年々洗浄の需要は高まっています。増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への対応があげられます。イオン残渣は、基本的に視認が難しい残渣であり、時間の経過とともにさまざまな形態に変化する可能性があり、リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因します。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。