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源RFスパッタ装置 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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グローブボックス付 多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境!多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応します!

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有機デバイス開発用 ■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結 ■UHV対応スパッタカソードを4本装着可能 ■酸素や水分を排除したい研究製膜環境 ■多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • スパッタリング装置

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4インチ3源RFスパッタ装置

基板寸法は最大3インチで3枚収納可能!加熱機構・逆スパッタ機構を備えています!

当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード(3基)で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっております。 【特長】 ■基板寸法:最大3インチ(3枚収納可) ■基板ホルダー:基板加熱500℃、基板回転、逆スパッタ機構付き ■スパッタカソード:φ4インチマグネトロンカソード(3基) ■ガス系:Ar O2 MFC2系統 ■基板挿入:上蓋手動開閉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • スパッタリング装置

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