CMPパッド再生・再利用技術 再盛エコキャップ
CMPプロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました
半導体の平坦化(CMP)プロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました。
- 企業:西華デジタルイメージ株式会社
- 価格:応相談
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CMPプロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました
半導体の平坦化(CMP)プロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました。