真空蒸着とは
ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術！真空蒸着の原理についてご紹介
『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、 蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて 薄膜を形成する成膜技術です。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用しています。 【特長】 ■ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱 ■蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて薄膜を形成 ■抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社奈良原産業
- 価格：応相談
