新型高速IAD真空薄膜型形成装置 BIS-1300
真空薄膜形成装置。新しい発想のイオンアシスト蒸着装置
【特長】 ●新型制御システムによるオペレータ負荷の軽減 ●排気・成膜速度向上による生産時間の短縮 ●新型光学膜厚計と新型モニターガラス機構により、 膜再現性が向上 ●コンパクトな配置を実現
- 企業:株式会社シンクロン
- 価格:応相談
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真空薄膜形成装置。新しい発想のイオンアシスト蒸着装置
【特長】 ●新型制御システムによるオペレータ負荷の軽減 ●排気・成膜速度向上による生産時間の短縮 ●新型光学膜厚計と新型モニターガラス機構により、 膜再現性が向上 ●コンパクトな配置を実現
真空薄膜形成や装置についてまとめた小冊子、差し上げます。
この資料は、真空薄膜形成装置を利用して薄膜を作製する方々を対象に、 ■真空とはどのようなものか ■真空を利用した薄膜形成技術にはどのようなものがあるのか ■薄膜とはどのようなものか ■薄膜形成に用いる装置はどのようなものか ■真空装置を使用するにあたって注意すること ■日常のメンテナンスについて 等 真空薄膜形成をする上での基本事項が書かれています。 この資料をお読みいただき、真空薄膜形成装置の性能を 最大限に活用していただければ幸いです。 〜資料をご希望の方は 「資料請求」 からお願い致します〜 ※シンクロンの真空薄膜形成装置ラインナップについては 「ダウンロード」 からご確認下さい。