R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産 【特徴】 ○緻密で経時変化が少ない ○基盤との付着力が強い ○低温での処理が可能 ○反応性イオンプレーティングができる ○成膜材料の汎用性が高い ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業:東邦化研株式会社
- 価格:応相談
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R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産 【特徴】 ○緻密で経時変化が少ない ○基盤との付着力が強い ○低温での処理が可能 ○反応性イオンプレーティングができる ○成膜材料の汎用性が高い ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。