【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム
イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が大幅アップ！ドライエッチング装置部品の保護膜・再生に最適！
つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置のRFウィンドウの再生市場価格1/2実現 ■エッチング装置のメンテナンスサイクルが大幅に改善 ■溶射、エアロゾル蒸着、イオンプレーティングによる成膜より 耐プラズマ性・耐食性に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
- 価格：応相談
