イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が大幅アップ！ドライエッチング装置部品の保護膜・再生に最適！
つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置のRFウィンドウの再生市場価格1/2実現 ■エッチング装置のメンテナンスサイクルが大幅に改善 ■溶射、エアロゾル蒸着、イオンプレーティングによる成膜より 耐プラズマ性・耐食性に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■石英・アルミナ・金属アルミへの成膜可能 ■石英ガラス上で500℃耐熱性を実現 ■歩留まり改善＋装置メンテナンスサイクルの大幅削減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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用途／実績例
【事例】 ■エッチング装置内部品の保護膜に ■MEMS用シリコン深堀装置部品の保護膜に ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
つばさ真空理研株式会社は、長年の半導体業界における経験を活かし、 半導体製造装置部品の保護膜関連の顧問会社として2019年に創業しました。 2021年、これまで蓄積したノウハウを具現化し導入を加速化するべく、 日本で使用される製造装置については耐食性保護膜も供給する 「受託コーティングベンチャー企業」として生まれ変わりました。 高融点金属酸化膜を級密な膜として捉えると、半導体以外にも多くの 応用が広がってきます。 当社は、ニッチ産業の頂点を目指すことで多くの産業に貢献し、 しいては未来の持続的な発展に尽くしてまいります。