酸化チタン(TiO2)ターゲット
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン!
■純度>99.9% ■密度(4.49 g/cm³) ■製造方法:HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社スパッタコア 本社
- 価格:応相談
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半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン!
■純度>99.9% ■密度(4.49 g/cm³) ■製造方法:HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。