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在庫販売で短納期！全品1個から販売
エドモンド・オプティクスは、高解像力顕微鏡用ターゲットを ディストーション評価用にご用意しています。 高解像力ターゲットは、高倍率顕微鏡システム用にデザインされ、 利便性のため標準的な顕微鏡用スライドガラスの寸法をベースに 作られています。 ターゲット用のパターンは、スライド内に物理的に固定されています。 ■詳細は下記リンクよりエドモンド・オプティクスの公式サイトにてご確認下さい。
ESD シミュレータを検証するための電流検出トランスデューサ
TBESDT1 ESD 電流ターゲットは、ESD シミュレータを検証するための電流検出トランスデューサです。最大 4 GHz までの IEC 61000-4-2 に準拠した測定を行うために使用されます。
ESD シミュレータを検証するための電流検出トランスデューサ
TBESDT2 ESD ターゲットは、ESD シミュレータを検証するための電流検出トランスデューサです。最大 4 GHz の IEC 61000 -4-2 に準拠した測定を行うために使用されます。
工程管理がしやすい！トップ部分が六角形状になった事で以前より羽根の強度が向上しました
『天端ターゲットII』は、コンクリート天端とレベラー天端の レベル出し作業が1度で済む製品です。 トップ部分が六角形状になった事で以前より羽根の強度が向上。 D10に加えD13の縦筋もロックできる様になりました。 工程管理がしやすく、特に冬場には、コンクリートの硬化を 待たずにレベラー施工が可能。 この他にも、余ってしまった生コンを無駄なく再利用できる 「樹脂サイコロ枠」もご用意しております。 【特長】 ■作業現場で工具が不要 ■工程管理がしやすい ■横筋径（D13、D16、D19、D22）であれば、立上り筋はもちろん、 土間筋でも使用可能 ■鉄筋に横または上から挟むだけなので取付簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ブレーカー本体が自己復帰式であろうと、補助接点がどのタイプであろうと、選択されたタイプに合わせて的確に表示します。
重要機器の保護を目的としたブレーカー等の作動実績を、電気信号の変化で記憶します。履歴の表示にはマグネットサインを用い機械的に表示するため、電源が落ちても表示し続けます。
価格競争力がつきます。品質に自信がつきます。どんなことで相談に応じます。
安価な各種蒸発材料、各種形状の材料を提供します。国内では競争ができないセラミック部材を安価に提供します。どんな形状でも引き受けます。 安価な石英ガラス材を多種形状で提供します。 真空装置の製作（電装系を含む）、改造など引く受けます。 真空蒸着、イオンプレーティング、各種スパッタリングによるサンプリング、受託加工を引きうけます。 めっき全般のサンプリング、受託加工、複雑な機械加工なども引き受けます。
米国MTI社の高品質で安価な結晶・材料をお届けいたします
業界トップクラスの品揃えを誇る米国MTI社の高品質で安価な結晶・材料をお届けいたします。 最少1点からご購入いただけます。MTI社の在庫品は、最短1~2週間程度でお届けできます。 詳細はホームページをご覧ください。
酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱膨張による割れも抑えたスパッタリングターゲットです。
当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。 現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、 弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。 その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなど お客様のご要望により製造・販売しております。 バッキングプレートを支給して頂き、新たなターゲット材にボンディング加工も致します。 関係会社の中国工場で生産をおこなうため低コストでのご提供ができ、 また、日本国内の品質を基準とした生産体制を整えております。 お客様のご要望により各種分析も実施可能です。 【対応可能材質】 金属材料：Si、Nb、Ti、Cr、Ta、Al… 酸化物 ：SiO2、Ta2O5、Al2O3、ITO… 合金材料：Cu+Ag、Ni+Cr、Ti+Cl… ※製造工程の紹介資料も進呈しております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
円筒ITOターゲットのパイオニア、ユミコア社製円筒形ITOスパッタリングターゲットです。
特徴： -. 組成：90wt% In2O3 ー10wt% SnO2はもちろん、SnO2の組成比を1wt%から20wt%まで柔軟に対応致します。 -. 最長670ｍｍまで分割無しで製作可能です。 -. 平面形状、ディスク形状でのご提供も可能です。
スパッタリング装置に使用される各種ターゲットを提供いたします。 円筒形、長方形等あらゆる形状を対応します。
高品質のターゲットを提供いたします Cr ターゲット Ti ターゲット Si ターゲット Nb ターゲット NiCr ターゲット Ta ターゲット Si+Cu ターゲット
ImageEngineering社製の精選テストチャートをご紹介！
ImageEngineering社のテストチャートは、280種類以上あり、画質評価や 信号解析のほとんどすべてを網羅しています。 ユニバーサルテストターゲットはスキャナーやアーカイビング用のその他 デジタル入力装置の画質評価のために設計されており、A4からA0までの 様々なサイズがあります。 【特長（TE262）】 ■アーカイビング・スキャニングの下記項目を網羅 ・均一性 ・縞模様と位置合わせ精度 ・歪曲収差 ・解像度（斜めエッジと目視） ・ダイナミックレンジとOECF ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
太陽電池・液晶（G10.5まで対応）・半導体向けや、スパッタリングターゲットはもちろん、金属部品や石英製品の修理も承ります。
当社は、ターゲット材、ヒーター、石英ガラスなどの消耗部品まで、 豊富なラインアップでお客様のニーズにお応えいたします。 独自設計による熱解析シミュレーション技術を応用し、 冷却効率が高くより安定したスパッタリングを実現。 様々な加工・溶接などのご相談からご提案、 太陽電池・液晶（G10.5まで対応）・半導体向けや、スパッタリングターゲットはもちろん メッキやブラスト等の表面処理、焼鈍、使用後の防着板等の洗浄、材料の超音波検査や引張試験などのサポートも幅広くご対応いたします。 まずは何なりとご相談ください。 【ラインアップ】 ■FPD用バッキングプレート ■半導体用バッキングプレート ■プレーナー式ターゲット ■石英加工品 ■その他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つ大型標準反射板
SphereOptics社製Zenith Lite超軽量拡散反射ターゲットは、ZenithPolymer拡散反射シートを特殊なPTFE高性能接着剤で厚さ10〜15mmのアルミニウム・ハニカム構造プレートに取り付けられて作製されています。 250 ～ 2450 nmの幅広いスペクトル範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つので、標準反射板として最適です。 ■特長 ・5 ～ 95 ％の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・バッチによる反射率の公差 ±3 ％ ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・PTBおよびNISTトレーサブルなPerkinElmer Lambda 950を使用した認定校正 ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -5 ～ 65 ℃ ・動作湿度範囲 ： 10 ～ 90 ％
各種製法による多種類のターゲット材に対応！バッキングプレートも製造可能です
スパッタリング法はイオン化した分子・原子を加速して材料に衝突させ、 飛ばされた材料を基板上に薄膜として堆積させる方法で、その材料は ターゲットと呼ばれます。 ターゲ ットの形状は装置によって決まり、矩形状・円筒状などがあります。 一般には材料をバッキングプレートに貼り付けたボンディング型ターゲッ トが 使われますが、特に円筒ターゲ ットについてはボンディング品のほか、 溶射型、一体型などがあります。 当社では、ターゲット材毎に好適なタイプを提供しております。 【形状(製法)】 ■円筒(ボンディング) ■円筒(一体型) ■円筒(溶射) ■平面(ボンディング) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
■高純度半導体用Wターゲット ■粉末冶金法で製造 ■W合金も多種類出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ニオブ(Nb)ターゲット 純度≧3N5
■高純度 ■表面粗さはコントロール可能 ■輸出輸入許可書付き ■半導体業界に供給実績あり ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
■高純度 ・通常純度が99.99％（4N）以上に達し、半導体、光学膜などの材料純度に対する要求が高い応用を満たすことができる ■良好な導電性 ・錫(Sn)は優れた導電性を有し、ITO薄膜の製造などの透明導電膜に適している ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
■タンタル(Ta)ターゲットは主に物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)プロセスに用いられる ■高耐熱性、優れた耐蝕性 ■高密度(16.6g/cm3) ・高エネルギースパッタリングに適用し、薄膜堆積効率を高める ■良好な導電性 ・抵抗率が低く、半導体及び電子デバイスの応用に適している ■生体適合性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8
■純度：2N5～3N8 ■製造法：HIP ■高硬度 ■耐摩耗性強い ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt％
■高純度Hfターゲット、半導体業界使用実績あり GDMS純度測定値付き ■厳しい管制の状況で、法律に従って許可書対応して輸入を行う ■民用であれば供給可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5
■高純度 半導体業界使用実績も多数あります。 ■緻密性 密度が高い、均一性がいい ■ニッケル合金も種類多く対応可能 NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTi ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
■各種類純度対応可能 ■形状： プレーナー ロータリターゲット 非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなどに利用可能なアルミネオジム材料
■純度：99.95％ ■密度（2.72 g/cm3） ■対応可能AlNd比率(wt%）：90:10; 94:6; 98:2など ■真空溶解法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
集積回路（IC）の製造、半導体・マイクロエレクトロニクス産業に貢献！高品質な薄膜を成膜可能なニッケル・バナジウム材料
■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体集積回路（VLSI）やフラットパネルディスプレイ・光ディスク・表面コーティング等に利用可能な合金材料
■純度：99.9％ ■密度（8.9 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
チップ製造における絶縁膜や、その他の高性能電子部品の製造、センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなどの光学機器の表面改質に！
■純度>99.9％ ■密度（3.95 g/cm³） ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
液晶、有機EL、プラズマディスプレイなどでの電圧印加用電極材等で使用可能な酸化インジウム材料
■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
電極として使用され、画面を構成する重要な材料！透明な電極として、画面のタッチ操作を可能、帯電防止膜、電磁波遮蔽膜などに！
■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン！
■純度>99.9％ ■密度（4.49 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
抵抗変化型メモリ（RRAM）、透明導電性薄膜（TCO）、ガスセンサー、スピントロニクスとして使用可能な酸化二ケル材料！
■純度>99.99％ ■理論密度（6.67g/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
