ターゲットのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ターゲット - メーカー・企業26社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年12月24日~2026年01月20日
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ターゲットのメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:2025年12月24日~2026年01月20日
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  1. 株式会社スパッタコア 本社 大阪府/電子部品・半導体
  2. エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 東京都/光学機器
  3. 株式会社ウエキコーポレーション 東京都/化学
  4. 井嶋金銀工業株式会社 東京都/製造・加工受託
  5. 5 MSHシステムズ株式会社 東京都/光学機器

ターゲットの製品ランキング

更新日: 集計期間:2025年12月24日~2026年01月20日
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  1. ハフニュウム(Hf)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
  2. 酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
  3. 高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製 株式会社ウエキコーポレーション
  4. アルミシリコン(Al-Si)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
  5. 4 スパッタリングターゲット 井嶋金銀工業株式会社

ターゲットの製品一覧

46~60 件を表示 / 全 118 件

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レアメタル系スパッタリングターゲット

半導体や電子部品に蒸着させる高純度高品質のスパッタリングターゲットをお客様ご指定の合金材料と形状で短納期でお届けします。

主な材質は、タンタル、ジルコニウム、チタン、ニオブ系の純金属と各種の合金類です。形状は円筒形、円板系のいづれにも対応します。お客様のご指定の材質や寸法を詳しく検討し、対応の可否をご連絡いたします。

  • レアメタル

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銅(Cu)ターゲット

銅(Cu)ターゲット 純度:3N7~6N 結晶40‐80um C18200 C18150も取り扱い

タッチパネル用を含めて、半導体用も頻繁に出荷中 ■プレーナーターゲット  幅2000mm、長さ3000mmまで可能 ■ロータリターゲット  OD176*ID125*3100mmⅬ年間400トン出荷記録あり ■バッキングプレートも制作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ジルコニウム(Zr)ターゲット

ジルコニウム(Zr)ターゲット 純度≧3N5、Hf≦0.2wt%,出荷中

■輸出許可書  ジルコニウム(Zr)ターゲットは中国から輸出制限され、入手困難になりつづでありますが、  弊社には関連法律に沿って、許可書申請してから常に出荷中。 ■主な特性  反り  ジルコニウム(Zr)ターゲットには反りやすい、しかもそり修正しにくい特徴があります。 ■品質保証  反り検査も含めて、GDMS純度測定など100%検品して出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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アルミシリコン(Al-Si)ターゲット

フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなどの用途に好適なアルミシリコン材料!

■純度:99.999% ■密度(2.69 g/cm³) ■製造方法:焼結法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • アルミニウム
  • その他金属材料

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アルミチタン(Al-Ti)ターゲット

工具・切削工具用コーティング、半導体デバイス内のトランジスタや集積回路、バリア膜などの形成に利用可能なアルミチタン材料!

■純度:99.999% ■密度(2.72 g/cm³) ■製造方法:溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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インジウムアンチモン(IAO)ターゲット

静電気防止コーティングと塗料にも広く使用されており、静電気蓄積を著しく減少させ、設備と人の安全を保護することができるIAO材料

■純度>99.99% ■密度(7.15/cm³) ■製造方法:焼結法、HP法   ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • セラミックス
  • ファインセラミックス

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タングステンチタン(W-Ti)ターゲット

マイクロチップのゲート回路などにおける、金属配線用の拡散防止剤や接着剤として使用可能なタングステンチタン材料

■純度:99.9% ■密度(19.3 g/cm³) ■製造方法:粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ニッケルクロム(NiCr)ターゲット

薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム!

■純度:99.5%~99.95% ■密度(8.4 g/cm³) ■製造方法:真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット

高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献!積層セラミックコンデンサの誘電率を高める添加材として

■純度>99.9% ■密度(4.47 g/cm³) ■製造方法:HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • レアメタル
  • その他金属材料

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【MEMs デバイス向け】薄膜材料(ターゲット・蒸着材)

既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現

WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、30年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP:https://www.vem-co.com <製品例> Pt系 Au系 Ti系 Cr系 Al系 【特徴】 ・純度99.9%から99.9999% ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属

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【調査資料】高純度金属スパッタリングターゲットの世界市場

高純度金属スパッタリングターゲットの世界市場:金属ターゲット、合金ターゲット、半導体、太陽エネルギー、フラットパネルディ ...

本調査レポート(Global High Purity Metal Sputtering Target Market)は、高純度金属スパッタリングターゲットのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の高純度金属スパッタリングターゲット市場概要、主要企業の動向(売上、販売価格、市場シェア)、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 高純度金属スパッタリングターゲット市場の種類別(By Type)のセグメントは、金属ターゲット、合金ターゲットを対象にしており、用途別(By Application)のセグメントは、半導体、太陽エネルギー、フラットパネルディスプレイ、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、高純度金属スパッタリングターゲットの市場規模を算出しました。 主要企業の高純度金属スパッタリングターゲット市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。

  • その他の各種サービス

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【半導体向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット

半導体薄膜形成に。高純度Hfターゲットで高品質な薄膜を。

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、薄膜の品質が重要視されています。特に、Hf(ハフニウム)ターゲットを用いた薄膜形成においては、ターゲット材の純度と均一性が、薄膜の特性を大きく左右します。不純物の混入や結晶粒径のばらつきは、薄膜の信頼性低下につながる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高品質な薄膜形成をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・スパッタリングによるHf薄膜の作製 ・高性能デバイス製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の実現 ・デバイス性能の向上 ・歩留まりの改善

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【航空宇宙向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット

航空宇宙分野の耐熱性を向上させる高純度Hfターゲット

航空宇宙業界では、高温環境下での部材の耐久性が重要です。特に、ロケットや航空機のエンジン部品においては、耐熱性と安定性が求められます。ハフニュウム(Hf)ターゲットは、これらの要求に応えるべく開発されました。 【活用シーン】 ・ロケットノズル ・航空機エンジン部品 ・耐熱コーティング 【導入の効果】 ・耐熱性の向上 ・薄膜堆積の安定性 ・製品寿命の延長

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【医療向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット

高純度Hfターゲットで、造影剤の品質向上をサポート

医療業界において、造影剤の品質は診断精度に直結し、患者さんの健康を左右する重要な要素です。造影剤の性能を最大限に引き出すためには、高品質な材料の選定が不可欠です。当社のハフニュウム(Hf)ターゲットは、高純度と均一性を実現し、造影剤の製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・造影剤製造 【導入の効果】 ・造影剤の品質向上 ・診断精度の向上

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【化学触媒向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット

高純度Hfターゲットで、触媒反応の効率化をサポート。

化学業界の触媒用途では、反応効率を高めるために、触媒材料の純度と均一性が重要です。特に、高純度Hfターゲットは、触媒反応の選択性と活性を向上させる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高い純度と均一性により、触媒反応の安定性と再現性を実現します。 【活用シーン】 ・触媒材料の研究開発 ・高性能触媒の製造 ・化学反応プロセスの最適化 【導入の効果】 ・触媒性能の向上 ・反応効率の改善 ・製品品質の安定化

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