鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9％の鉄（Fe）材料！
■純度：99.9％~99.999％ ■理論密度（16.6 g/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ターゲット - メーカー・企業25社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり
更新日： 集計期間:2026年03月25日～2026年04月21日
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ターゲットのメーカー・企業ランキング
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- 株式会社スパッタコア 本社 大阪府/電子部品・半導体
- エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 東京都/光学機器
- 株式会社ウエキコーポレーション 東京都/化学
- 4 USTRON株式会社 東京都/化学
- 4 MSHシステムズ株式会社 東京都/光学機器
ターゲットの製品ランキング
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- レーザー検出ターゲット エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 酸化スズ（SnO）ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』 USTRON株式会社
- 高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製 株式会社ウエキコーポレーション
- 4 タングステンチタン(W-Ti)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
ターゲットの製品一覧
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レーザー検出ターゲット
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
レーザー検出ターゲットは、不可視レーザーの可視化／アライメント作業には欠かすことのできないツールです。本製品は、従来の検出ターゲットにはない優れた性能を持ち、UV~IRレーザー使用時の使用者への安全性を考慮してデザインされた画期的製品です。本製品の使用により、ビームの可視化、ビームプロファイリング、またアライメント作業において、従来の検出ターゲットで問題とされてきた点を改善することが可能になります。感応波長帯別にUVタイプ、VIS (可視光)タイプ、IRタイプの3種類をご用意しました。どのタイプにもカードタイプ、細板タイプ、ベンチマウントタイプの3種類のスタイルが選べます。 標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
テストターゲット一覧
在庫販売で短納期！全品１個から販売
エドモンド・オプティクスは、多くのイメージングシステムに適した広範な テストターゲットをご用意しています。 テストターゲットは、素早く簡単なセットアップのため、 イメージングシステム内に容易に実装できるようデザインされています。 テストターゲットは、多くの異なるシステムに対して繰り返し 使用できるため、わずかな数のターゲットで数多くのイメージング システムに利用することが可能です。 テストターゲットは、ガラス、クロム、フォトペーパーといった 使い勝手のよい複数の基板材料オプションでラインアップします。 ■詳細は下記リンクよりエドモンド・オプティクスの公式サイトにて ご確認下さい。
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
タングステン・モリブデン製 スパッタリングターゲット
世界最高品質のタングステン･モリブデン スパッタリングターゲット
プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。
- 企業：プランゼージャパン株式会社
- 価格：応相談
粒子画像速度測定法 (PIV) - アクティブターゲット
ステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVの平面・立体ターゲットで発生するヒューマンエラーを削減、短時間で校正が可能
Active Target は従来のステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVにおける平面もしくは立体ターゲットにおいて生じるヒューマンエラーを削減し、より短時間で校正を完了することができます。 ターゲットにはLEDが装備されており、ソフトウェアからの制御によりこれを自動点滅させることによって奥行き方向の校正を短時間で行うことができます。トラバース装置を利用することで、広範囲に校正を行うことができる他、ターゲットを複数接続することによって、大領域での校正にも対応することができます。
- 企業：ダンテック・ダイナミクス株式会社
- 価格：応相談
シリコン側面スパッタリングターゲット
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
スパッタリング 瓦状のシリコンを何枚かつなぎ合わせて側面スパッタとして使用します。
- 企業：株式会社 産研舎 本社
- 価格：応相談
スパッタリングターゲット
自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。
・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。 ・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。 ・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。 ・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。 ・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。
- 企業：井嶋金銀工業株式会社
- 価格：応相談
円筒ターゲット
スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並びに蒸着材料をリーズナブルな価格でご提供致します。
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 １．製法：溶解材押出し一体もの 代表的材料：Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ 利点：割れるリスクがない、低速回転可能 欠点：高純度品が無い ２．製法：プラズマスプレイ 代表的材料：Ｓｉ、Ａｇ、ＺｎＡｌ等 利点：割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点：５Ｎ以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註：表面仕上方法により初期立上げ時間を短縮可能 ３．製法：コールドスプレイ 代表的材料：Ａｇ 等 利点：割れるリスクが比較的少ない、使用済みターゲットの上にそのまま溶射できる。 欠点：プラズマスプレイ法より高価。初期立上げに時間がかかる。 註：上記２と同じ ４．製法：キャストターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：特殊合金等 利点：高純度品が可能。 欠点：切れ目からのアークのリスクがある。低速回転にて、割れたりインジウムが溶ける。高価。投入限界パワーが低い。 ５．製法：焼結ターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：ＩＴＯ、ＡＺＯ等 利点：高純度品が可能。材料を選ばない。 欠点：上記４と同じ
- 企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
- 価格：応相談
Zenith polymer 標準拡散反射ターゲット
99 ％反射の標準反射板。250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性。
SphereOptics社製Zenith Polymer 標準拡散反射ターゲットは、独自素材のZenith Polymer反射材から製造されています。 熱、湿気、および高出力光源からの照射に耐久性がある他、250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つなど、標準反射板として最適です。 これらのターゲットは10 mmの厚さを持ち、簡単に固定するためにフレームに取り付けることができます。 ■特長 ・99 ％の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・バッチによる反射率の公差 ±3 ％ ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・PTBおよびNISTトレーサブルなPerkinElmer Lambda 950を使用した認定校正 ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -50 ～ 250 ℃ ・動作湿度範囲 ： 5 ～ 95 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズ
250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つ大型標準反射板
SphereOptics社製工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズは、ZenithPolymer拡散反射シートをアルミニウムブレッドボードに特殊接着剤で取り付けて作製された、大型の標準拡散反射板です。 250 ～ 2450 nmの幅広いスペクトル範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つので、標準反射板として最適です。 ■特長 ・2 ～ 95 ％の14種類の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -5 ～ 65 ℃ ・動作湿度範囲 ： 10 ～ 90 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
工業用合金スパッタリングターゲット、インゴット
創業60年、確かな技術
弊社では電子機器、半導体等電子部品薄膜用のスパッタリングターゲット等、合金の工業製品の製造(溶解・圧延・加工)も行っております。 細かな対応も可能であり、 研究用や試作用など小ロットからの製造も承っております。 角ターゲット、チップ、その他形状ご依頼に応じて作成いたします。お気軽にお問合せください。
- 企業：城北冶金工業株式会社
- 価格：応相談
【次世代通信デバイス向け】薄膜材料（ターゲット・蒸着材）
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ AlSc Ni系 Ti系 Al系 【特徴】 ・純度が99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
- 企業：株式会社WAVES
- 価格：応相談
韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)
液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソースとしてご検討ください。
＊大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊光学デバイス用。 ＊ITO（酸化インジウムスズ、In2O3＋SnO2）系、 および、IGZO（インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn）系 のターゲット材がございます。 ＊平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 ＊高純度・高密度品をご提供できます。 ＊蒸着中に錯乱粒子が少なく、クラック発生が少なくできます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
- 企業：蝶理株式会社 無機ファイン部
- 価格：応相談
韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)
太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99％以上の高純度品です。
＊TCO（透明導電膜）ターゲット材 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、 ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 がございます。 AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
- 企業：蝶理株式会社 無機ファイン部
- 価格：応相談
レアメタル系スパッタリングターゲット
半導体や電子部品に蒸着させる高純度高品質のスパッタリングターゲットをお客様ご指定の合金材料と形状で短納期でお届けします。
主な材質は、タンタル、ジルコニウム、チタン、ニオブ系の純金属と各種の合金類です。形状は円筒形、円板系のいづれにも対応します。お客様のご指定の材質や寸法を詳しく検討し、対応の可否をご連絡いたします。
- 企業：合同会社樋口経済企画研究所
- 価格：応相談
銅(Cu)ターゲット
銅(Cu)ターゲット 純度:3N7~6N 結晶40‐80um C18200 C18150も取り扱い
タッチパネル用を含めて、半導体用も頻繁に出荷中 ■プレーナーターゲット 幅2000ｍｍ、長さ3000mmまで可能 ■ロータリターゲット OD176*ID125*3100ｍｍⅬ年間400トン出荷記録あり ■バッキングプレートも制作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ジルコニウム(Zr)ターゲット
ジルコニウム(Zr)ターゲット 純度≧3N5、Hf≦0.2wt%，出荷中
■輸出許可書 ジルコニウム(Zr)ターゲットは中国から輸出制限され、入手困難になりつづでありますが、 弊社には関連法律に沿って、許可書申請してから常に出荷中。 ■主な特性 反り ジルコニウム(Zr)ターゲットには反りやすい、しかもそり修正しにくい特徴があります。 ■品質保証 反り検査も含めて、GDMS純度測定など100%検品して出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
アルミシリコン(Al-Si)ターゲット
フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなどの用途に好適なアルミシリコン材料！
■純度：99.999％ ■密度（2.69 g/cm³） ■製造方法：焼結法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
アルミチタン(Al-Ti)ターゲット
工具・切削工具用コーティング、半導体デバイス内のトランジスタや集積回路、バリア膜などの形成に利用可能なアルミチタン材料！
■純度：99.999％ ■密度（2.72 g/cm³） ■製造方法：溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
インジウムアンチモン（IAO）ターゲット
静電気防止コーティングと塗料にも広く使用されており、静電気蓄積を著しく減少させ、設備と人の安全を保護することができるIAO材料
■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
タングステンチタン(W-Ti)ターゲット
マイクロチップのゲート回路などにおける、金属配線用の拡散防止剤や接着剤として使用可能なタングステンチタン材料
■純度：99.9％ ■密度（19.3 g/cm³） ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ニッケルクロム（NiCr）ターゲット
薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム！
■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献！積層セラミックコンデンサの誘電率を高める添加材として
■純度>99.9％ ■密度（4.47 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
【MEMs デバイス向け】薄膜材料（ターゲット・蒸着材）
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ Pt系 Au系 Ti系 Cr系 Al系 【特徴】 ・純度99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
- 企業：株式会社WAVES
- 価格：応相談
【調査資料】高純度金属スパッタリングターゲットの世界市場
高純度金属スパッタリングターゲットの世界市場：金属ターゲット、合金ターゲット、半導体、太陽エネルギー、フラットパネルディ ...
本調査レポート（Global High Purity Metal Sputtering Target Market）は、高純度金属スパッタリングターゲットのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の高純度金属スパッタリングターゲット市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 高純度金属スパッタリングターゲット市場の種類別（By Type）のセグメントは、金属ターゲット、合金ターゲットを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、半導体、太陽エネルギー、フラットパネルディスプレイ、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、高純度金属スパッタリングターゲットの市場規模を算出しました。 主要企業の高純度金属スパッタリングターゲット市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
- 企業：株式会社マーケットリサーチセンター
- 価格：応相談
【半導体向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
半導体薄膜形成に。高純度Hfターゲットで高品質な薄膜を。
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、薄膜の品質が重要視されています。特に、Hf（ハフニウム）ターゲットを用いた薄膜形成においては、ターゲット材の純度と均一性が、薄膜の特性を大きく左右します。不純物の混入や結晶粒径のばらつきは、薄膜の信頼性低下につながる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高品質な薄膜形成をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・スパッタリングによるHf薄膜の作製 ・高性能デバイス製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の実現 ・デバイス性能の向上 ・歩留まりの改善
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
【航空宇宙向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱性を向上させる高純度Hfターゲット
航空宇宙業界では、高温環境下での部材の耐久性が重要です。特に、ロケットや航空機のエンジン部品においては、耐熱性と安定性が求められます。ハフニュウム(Hf)ターゲットは、これらの要求に応えるべく開発されました。 【活用シーン】 ・ロケットノズル ・航空機エンジン部品 ・耐熱コーティング 【導入の効果】 ・耐熱性の向上 ・薄膜堆積の安定性 ・製品寿命の延長
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
【医療向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、造影剤の品質向上をサポート
医療業界において、造影剤の品質は診断精度に直結し、患者さんの健康を左右する重要な要素です。造影剤の性能を最大限に引き出すためには、高品質な材料の選定が不可欠です。当社のハフニュウム(Hf)ターゲットは、高純度と均一性を実現し、造影剤の製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・造影剤製造 【導入の効果】 ・造影剤の品質向上 ・診断精度の向上
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
【化学触媒向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、触媒反応の効率化をサポート。
化学業界の触媒用途では、反応効率を高めるために、触媒材料の純度と均一性が重要です。特に、高純度Hfターゲットは、触媒反応の選択性と活性を向上させる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高い純度と均一性により、触媒反応の安定性と再現性を実現します。 【活用シーン】 ・触媒材料の研究開発 ・高性能触媒の製造 ・化学反応プロセスの最適化 【導入の効果】 ・触媒性能の向上 ・反応効率の改善 ・製品品質の安定化
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、ディスプレイの品質向上に貢献
ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能を左右します。特に、スパッタリング技術を用いた高品質な薄膜形成には、高純度Hfターゲットが不可欠です。Hfターゲットの純度と均一性が、ディスプレイの表示性能や耐久性に大きく影響します。当社製品は、高純度Hfターゲットを提供し、お客様のディスプレイ製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造におけるスパッタリング工程 ・薄膜トランジスタ（TFT）製造 ・タッチパネル製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成による表示性能の向上 ・製品の耐久性向上 ・歩留まりの改善
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
