ニオブ(Nb)ターゲット
ニオブ(Nb)ターゲット 純度≧3N5
■高純度 ■表面粗さはコントロール可能 ■輸出輸入許可書付き ■半導体業界に供給実績あり ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ターゲット - メーカー・企業26社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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ターゲットのメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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- 株式会社スパッタコア 本社 大阪府/電子部品・半導体
- エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 東京都/光学機器
- 株式会社ウエキコーポレーション 東京都/化学
- 井嶋金銀工業株式会社 東京都/製造・加工受託
- 5 MSHシステムズ株式会社 東京都/光学機器
ターゲットの製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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- ハフニュウム(Hf)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製 株式会社ウエキコーポレーション
- アルミシリコン(Al-Si)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 4 スパッタリングターゲット 井嶋金銀工業株式会社
ターゲットの製品一覧
16～30 件を表示 ／ 全 118 件
表示件数
錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
■高純度 ・通常純度が99.99％（4N）以上に達し、半導体、光学膜などの材料純度に対する要求が高い応用を満たすことができる ■良好な導電性 ・錫(Sn)は優れた導電性を有し、ITO薄膜の製造などの透明導電膜に適している ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
タンタル(Ta)ターゲット
タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
■タンタル(Ta)ターゲットは主に物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)プロセスに用いられる ■高耐熱性、優れた耐蝕性 ■高密度(16.6g/cm3) ・高エネルギースパッタリングに適用し、薄膜堆積効率を高める ■良好な導電性 ・抵抗率が低く、半導体及び電子デバイスの応用に適している ■生体適合性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
クロム(Cr)ターゲット
クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8
■純度：2N5～3N8 ■製造法：HIP ■高硬度 ■耐摩耗性強い ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ハフニュウム(Hf)ターゲット
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt％
■高純度Hfターゲット、半導体業界使用実績あり GDMS純度測定値付き ■厳しい管制の状況で、法律に従って許可書対応して輸入を行う ■民用であれば供給可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ニッケル(Ni)ターゲット
ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5
■高純度 半導体業界使用実績も多数あります。 ■緻密性 密度が高い、均一性がいい ■ニッケル合金も種類多く対応可能 NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTi ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
チタン(Ti)ターゲット
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
■各種類純度対応可能 ■形状： プレーナー ロータリターゲット 非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
アルミネオジム(Al-Nd)ターゲット
フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなどに利用可能なアルミネオジム材料
■純度：99.95％ ■密度（2.72 g/cm3） ■対応可能AlNd比率(wt%）：90:10; 94:6; 98:2など ■真空溶解法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ニッケル・バナジウム(NiV)ターゲット
集積回路（IC）の製造、半導体・マイクロエレクトロニクス産業に貢献！高品質な薄膜を成膜可能なニッケル・バナジウム材料
■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ニッケルカッパー(NiCu)ターゲット
半導体集積回路（VLSI）やフラットパネルディスプレイ・光ディスク・表面コーティング等に利用可能な合金材料
■純度：99.9％ ■密度（8.9 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
酸化アルミ(Al2O3)ターゲット
チップ製造における絶縁膜や、その他の高性能電子部品の製造、センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなどの光学機器の表面改質に！
■純度>99.9％ ■密度（3.95 g/cm³） ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
酸化インジウム（In2O3）ターゲット
液晶、有機EL、プラズマディスプレイなどでの電圧印加用電極材等で使用可能な酸化インジウム材料
■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
酸化スズ（SnO）ターゲット
電極として使用され、画面を構成する重要な材料！透明な電極として、画面のタッチ操作を可能、帯電防止膜、電磁波遮蔽膜などに！
■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
酸化チタン(TiO2)ターゲット
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン！
■純度>99.9％ ■密度（4.49 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
酸化二ケルNiOターゲット高密度高純度光触媒用保護膜用磁性薄膜用
抵抗変化型メモリ（RRAM）、透明導電性薄膜（TCO）、ガスセンサー、スピントロニクスとして使用可能な酸化二ケル材料！
■純度>99.99％ ■理論密度（6.67g/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
