錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
■高純度 ・通常純度が99.99％（4N）以上に達し、半導体、光学膜などの材料純度に対する要求が高い応用を満たすことができる ■良好な導電性 ・錫(Sn)は優れた導電性を有し、ITO薄膜の製造などの透明導電膜に適している ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア
- 価格：応相談
ターゲット - メーカー・企業26社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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ターゲットのメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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- 株式会社スパッタコア 大阪府/電子部品・半導体
- 蝶理株式会社 無機ファイン部 大阪府/化学
- エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 東京都/光学機器
- 4 MSHシステムズ株式会社 東京都/光学機器
- 5 USTRON株式会社 東京都/化学
ターゲットの製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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- ジルコニウム(Zr)ターゲット 株式会社スパッタコア
- 韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ) 蝶理株式会社 無機ファイン部
- テストターゲット一覧 エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO) 蝶理株式会社 無機ファイン部
- 4 銅(Cu)ターゲット 株式会社スパッタコア
ターゲットの製品一覧
16～30 件を表示 ／ 全 46 件
表示件数
タンタル(Ta)ターゲット
タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
■タンタル(Ta)ターゲットは主に物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)プロセスに用いられる ■高耐熱性、優れた耐蝕性 ■高密度(16.6g/cm3) ・高エネルギースパッタリングに適用し、薄膜堆積効率を高める ■良好な導電性 ・抵抗率が低く、半導体及び電子デバイスの応用に適している ■生体適合性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア
- 価格：応相談
クロム(Cr)ターゲット
クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8
■純度：2N5～3N8 ■製造法：HIP ■高硬度 ■耐摩耗性強い ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア
- 価格：応相談
ハフニュウム(Hf)ターゲット
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt％
■高純度Hfターゲット、半導体業界使用実績あり GDMS純度測定値付き ■厳しい管制の状況で、法律に従って許可書対応して輸入を行う ■民用であれば供給可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア
- 価格：応相談
ニッケル(Ni)ターゲット
ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5
■高純度 半導体業界使用実績も多数あります。 ■緻密性 密度が高い、均一性がいい ■ニッケル合金も種類多く対応可能 NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTi ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア
- 価格：応相談
チタン(Ti)ターゲット
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
■各種類純度対応可能 ■形状： プレーナー ロータリターゲット 非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア
- 価格：応相談
レーザー検出ターゲット
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
レーザー検出ターゲットは、不可視レーザーの可視化／アライメント作業には欠かすことのできないツールです。本製品は、従来の検出ターゲットにはない優れた性能を持ち、UV~IRレーザー使用時の使用者への安全性を考慮してデザインされた画期的製品です。本製品の使用により、ビームの可視化、ビームプロファイリング、またアライメント作業において、従来の検出ターゲットで問題とされてきた点を改善することが可能になります。感応波長帯別にUVタイプ、VIS (可視光)タイプ、IRタイプの3種類をご用意しました。どのタイプにもカードタイプ、細板タイプ、ベンチマウントタイプの3種類のスタイルが選べます。 標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
テストターゲット一覧
在庫販売で短納期！全品１個から販売
エドモンド・オプティクスは、多くのイメージングシステムに適した広範な テストターゲットをご用意しています。 テストターゲットは、素早く簡単なセットアップのため、 イメージングシステム内に容易に実装できるようデザインされています。 テストターゲットは、多くの異なるシステムに対して繰り返し 使用できるため、わずかな数のターゲットで数多くのイメージング システムに利用することが可能です。 テストターゲットは、ガラス、クロム、フォトペーパーといった 使い勝手のよい複数の基板材料オプションでラインアップします。 ■詳細は下記リンクよりエドモンド・オプティクスの公式サイトにて ご確認下さい。
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
LiDARテスト用反射ターゲットキット『PFK』
野外での使用を想定した堅牢かつ軽量構造！広いダイナミックレンジの測定が可能
『PFK』は、LiDARテスト用の反射ターゲットキットです。 反射率10％、50％、80％の3枚の組み合わせが選択されることが多く、 広いダイナミックレンジの測定が可能です。 また反射ターゲットは理想的な反射拡散面に近く、耐久性もあり 軽量であるために野外での測定に好適。汚れに強く水洗いが可能です。 保管や移動に便利なケースが標準で付属しています。 【特長】 ■反射率10％、50％、80％3枚セットによる広いダイナミックレンジの測定が可能 ■350～1000nmの波長域の反射率データ添付 ■オプションにより250～2500nmの反射率データの添付が可能 ■測定ターゲットサイズにより0.5m角、1m角、1.5m角の3つのサイズを用意 ■入射角によらず理想的なランバーシアンに近い拡散反射特性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：オーシャンフォトニクス株式会社
- 価格：応相談
タングステン・モリブデン製 スパッタリングターゲット
世界最高品質のタングステン･モリブデン スパッタリングターゲット
プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。
- 企業：プランゼージャパン株式会社
- 価格：応相談
粒子画像速度測定法 (PIV) - アクティブターゲット
ステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVの平面・立体ターゲットで発生するヒューマンエラーを削減、短時間で校正が可能
Active Target は従来のステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVにおける平面もしくは立体ターゲットにおいて生じるヒューマンエラーを削減し、より短時間で校正を完了することができます。 ターゲットにはLEDが装備されており、ソフトウェアからの制御によりこれを自動点滅させることによって奥行き方向の校正を短時間で行うことができます。トラバース装置を利用することで、広範囲に校正を行うことができる他、ターゲットを複数接続することによって、大領域での校正にも対応することができます。
- 企業：ダンテック・ダイナミクス株式会社
- 価格：応相談
シリコン側面スパッタリングターゲット
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
スパッタリング 瓦状のシリコンを何枚かつなぎ合わせて側面スパッタとして使用します。
- 企業：株式会社 産研舎 本社
- 価格：応相談
スパッタリングターゲット
自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。
・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。 ・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。 ・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。 ・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。 ・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。
- 企業：井嶋金銀工業株式会社
- 価格：応相談
円筒ターゲット
スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並びに蒸着材料をリーズナブルな価格でご提供致します。
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 １．製法：溶解材押出し一体もの 代表的材料：Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ 利点：割れるリスクがない、低速回転可能 欠点：高純度品が無い ２．製法：プラズマスプレイ 代表的材料：Ｓｉ、Ａｇ、ＺｎＡｌ等 利点：割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点：５Ｎ以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註：表面仕上方法により初期立上げ時間を短縮可能 ３．製法：コールドスプレイ 代表的材料：Ａｇ 等 利点：割れるリスクが比較的少ない、使用済みターゲットの上にそのまま溶射できる。 欠点：プラズマスプレイ法より高価。初期立上げに時間がかかる。 註：上記２と同じ ４．製法：キャストターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：特殊合金等 利点：高純度品が可能。 欠点：切れ目からのアークのリスクがある。低速回転にて、割れたりインジウムが溶ける。高価。投入限界パワーが低い。 ５．製法：焼結ターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：ＩＴＯ、ＡＺＯ等 利点：高純度品が可能。材料を選ばない。 欠点：上記４と同じ
- 企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
- 価格：応相談
Zenith polymer 標準拡散反射ターゲット
99 ％反射の標準反射板。250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性。
SphereOptics社製Zenith Polymer 標準拡散反射ターゲットは、独自素材のZenith Polymer反射材から製造されています。 熱、湿気、および高出力光源からの照射に耐久性がある他、250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つなど、標準反射板として最適です。 これらのターゲットは10 mmの厚さを持ち、簡単に固定するためにフレームに取り付けることができます。 ■特長 ・99 ％の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・バッチによる反射率の公差 ±3 ％ ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・PTBおよびNISTトレーサブルなPerkinElmer Lambda 950を使用した認定校正 ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -50 ～ 250 ℃ ・動作湿度範囲 ： 5 ～ 95 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
