更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
31～45 件を表示 ／ 全 46 件
250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つ大型標準反射板
SphereOptics社製工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズは、ZenithPolymer拡散反射シートをアルミニウムブレッドボードに特殊接着剤で取り付けて作製された、大型の標準拡散反射板です。 250 ～ 2450 nmの幅広いスペクトル範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つので、標準反射板として最適です。 ■特長 ・2 ～ 95 ％の14種類の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -5 ～ 65 ℃ ・動作湿度範囲 ： 10 ～ 90 ％
創業60年、確かな技術
弊社では電子機器、半導体等電子部品薄膜用のスパッタリングターゲット等、合金の工業製品の製造(溶解・圧延・加工)も行っております。 細かな対応も可能であり、 研究用や試作用など小ロットからの製造も承っております。 角ターゲット、チップ、その他形状ご依頼に応じて作成いたします。お気軽にお問合せください。
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ AlSc Ni系 Ti系 Al系 【特徴】 ・純度が99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソースとしてご検討ください。
＊大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊光学デバイス用。 ＊ITO（酸化インジウムスズ、In2O3＋SnO2）系、 および、IGZO（インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn）系 のターゲット材がございます。 ＊平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 ＊高純度・高密度品をご提供できます。 ＊蒸着中に錯乱粒子が少なく、クラック発生が少なくできます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99％以上の高純度品です。
＊TCO（透明導電膜）ターゲット材 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、 ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 がございます。 AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
半導体や電子部品に蒸着させる高純度高品質のスパッタリングターゲットをお客様ご指定の合金材料と形状で短納期でお届けします。
主な材質は、タンタル、ジルコニウム、チタン、ニオブ系の純金属と各種の合金類です。形状は円筒形、円板系のいづれにも対応します。お客様のご指定の材質や寸法を詳しく検討し、対応の可否をご連絡いたします。
銅(Cu)ターゲット 純度:3N7~6N 結晶40‐80um C18200 C18150も取り扱い
タッチパネル用を含めて、半導体用も頻繁に出荷中 ■プレーナーターゲット 幅2000ｍｍ、長さ3000mmまで可能 ■ロータリターゲット OD176*ID125*3100ｍｍⅬ年間400トン出荷記録あり ■バッキングプレートも制作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ジルコニウム(Zr)ターゲット 純度≧3N5、Hf≦0.2wt%，出荷中
■輸出許可書 ジルコニウム(Zr)ターゲットは中国から輸出制限され、入手困難になりつづでありますが、 弊社には関連法律に沿って、許可書申請してから常に出荷中。 ■主な特性 反り ジルコニウム(Zr)ターゲットには反りやすい、しかもそり修正しにくい特徴があります。 ■品質保証 反り検査も含めて、GDMS純度測定など100%検品して出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ Pt系 Au系 Ti系 Cr系 Al系 【特徴】 ・純度99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
高純度金属スパッタリングターゲットの世界市場：金属ターゲット、合金ターゲット、半導体、太陽エネルギー、フラットパネルディ ...
本調査レポート（Global High Purity Metal Sputtering Target Market）は、高純度金属スパッタリングターゲットのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の高純度金属スパッタリングターゲット市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 高純度金属スパッタリングターゲット市場の種類別（By Type）のセグメントは、金属ターゲット、合金ターゲットを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、半導体、太陽エネルギー、フラットパネルディスプレイ、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、高純度金属スパッタリングターゲットの市場規模を算出しました。 主要企業の高純度金属スパッタリングターゲット市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
在庫販売で短納期！全品１個から販売
エドモンド・オプティクスは、画像計測ニーズの多くに対応する広範な 解像力用テストターゲットをご用意しています。 解像力用テストターゲットは、使用者がイメージングシステムの精度を 容易に計測することを可能にし、システムの長期使用後の性能を 監視していくことで、システム寿命の長期化を可能にします。 スターターゲットは、ウェッジ状の沢山の線で構成された円形パターンで、 イメージングシステムが個々の線をどこまで区別できるかを見ることで 解像力を計測します。 ロンキーパターンを持つターゲットは、ウェッジ状ではない一連の密な 線を同様に持ち、イメージングシステムの性能を計測します。 解像力用テストターゲットの多くが、ガラススライドとフォトペーパーの 両タイプでラインアップされています。 ■詳細は下記リンクよりエドモンド・オプティクスの公式サイトにて ご確認下さい。
スパッタリングターゲット（プラナー/円筒型）の販売、およびボンディング加工に対応します。
半導体、MRAM、タッチパネル、反射防止膜、太陽電池（PV）、リチウムイオン電池、ディスプレイ等の用途向け ・スパッタリングターゲットの少量試作から量産向け供給まで幅広く対応。 ・永年の経験と知識に基づく確実なボンディング対応およびご予算に合わせたご提案が可能。 ・プラナー型のみでなく、コストメリットや歩留まりに優れた円筒型ターゲットおよびボンディングに対応。 ・自社保有の大型UT検査装置（超音波探傷）と品質マネジメントシステムによる品質保証。 ・自社設備に加え、国内外のネットワークを活用し、多様なニーズに対応可能。 ・独自開発の高品質なボンディング材料や工法を保有。
PRAXAIR社製スパッタリングターゲットの国内総代理店として日本各地に広がったネットワークでお客様の物づくりをサポート致します
高品質を目指して PRAXAIRは広範囲な研究開発、および最高品質のスパッタリングターゲットの製造を通じて、大手サプライヤーとしての評価を得ています。 AdvanTageタンタルターゲット AdvanTageタンタルターゲットは一貫した再現可能なプロセス性能を提供します。 厚さの均一性と量産品質による再現性のあるスパッタリング成膜を実現します。高い製造技術により、均一な微細構造が生成され、初期の安定性が向上し、寿命全般にわたって一貫したスパッタ性能が得られます。 各スパッタリング装置メーカーの認定品もございます。
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com 【特徴】 ・純度99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
スパッタリングターゲット材料の世界市場：金属ターゲット、合金ターゲット、セラミックコンパウンドターゲット、半導体、太陽エ ...
本調査レポート（Global Sputtering Target Material Market）は、スパッタリングターゲット材料のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のスパッタリングターゲット材料市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 スパッタリングターゲット材料市場の種類別（By Type）のセグメントは、金属ターゲット、合金ターゲット、セラミックコンパウンドターゲットを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、半導体、太陽エネルギー、LCDフラットパネルディスプレイ、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、スパッタリングターゲット材料の市場規模を算出しました。 主要企業のスパッタリングターゲット材料市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
