鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9％の鉄（Fe）材料！
■純度：99.9％~99.999％ ■理論密度（16.6 g/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社スパッタコア 本社
- 価格：応相談
ターゲット - メーカー・企業26社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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ターゲットのメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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- 株式会社スパッタコア 本社 大阪府/電子部品・半導体
- エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 東京都/光学機器
- 株式会社ウエキコーポレーション 東京都/化学
- 井嶋金銀工業株式会社 東京都/製造・加工受託
- 5 MSHシステムズ株式会社 東京都/光学機器
ターゲットの製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
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- ハフニュウム(Hf)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製 株式会社ウエキコーポレーション
- アルミシリコン(Al-Si)ターゲット 株式会社スパッタコア 本社
- 4 スパッタリングターゲット 井嶋金銀工業株式会社
ターゲットの製品一覧
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表示件数
レーザー検出ターゲット
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
レーザー検出ターゲットは、不可視レーザーの可視化／アライメント作業には欠かすことのできないツールです。本製品は、従来の検出ターゲットにはない優れた性能を持ち、UV~IRレーザー使用時の使用者への安全性を考慮してデザインされた画期的製品です。本製品の使用により、ビームの可視化、ビームプロファイリング、またアライメント作業において、従来の検出ターゲットで問題とされてきた点を改善することが可能になります。感応波長帯別にUVタイプ、VIS (可視光)タイプ、IRタイプの3種類をご用意しました。どのタイプにもカードタイプ、細板タイプ、ベンチマウントタイプの3種類のスタイルが選べます。 標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
テストターゲット一覧
在庫販売で短納期！全品１個から販売
エドモンド・オプティクスは、多くのイメージングシステムに適した広範な テストターゲットをご用意しています。 テストターゲットは、素早く簡単なセットアップのため、 イメージングシステム内に容易に実装できるようデザインされています。 テストターゲットは、多くの異なるシステムに対して繰り返し 使用できるため、わずかな数のターゲットで数多くのイメージング システムに利用することが可能です。 テストターゲットは、ガラス、クロム、フォトペーパーといった 使い勝手のよい複数の基板材料オプションでラインアップします。 ■詳細は下記リンクよりエドモンド・オプティクスの公式サイトにて ご確認下さい。
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
LiDARテスト用反射ターゲットキット『PFK』
野外での使用を想定した堅牢かつ軽量構造！広いダイナミックレンジの測定が可能
『PFK』は、LiDARテスト用の反射ターゲットキットです。 反射率10％、50％、80％の3枚の組み合わせが選択されることが多く、 広いダイナミックレンジの測定が可能です。 また反射ターゲットは理想的な反射拡散面に近く、耐久性もあり 軽量であるために野外での測定に好適。汚れに強く水洗いが可能です。 保管や移動に便利なケースが標準で付属しています。 【特長】 ■反射率10％、50％、80％3枚セットによる広いダイナミックレンジの測定が可能 ■350～1000nmの波長域の反射率データ添付 ■オプションにより250～2500nmの反射率データの添付が可能 ■測定ターゲットサイズにより0.5m角、1m角、1.5m角の3つのサイズを用意 ■入射角によらず理想的なランバーシアンに近い拡散反射特性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：オーシャンフォトニクス株式会社
- 価格：応相談
タングステン・モリブデン製 スパッタリングターゲット
世界最高品質のタングステン･モリブデン スパッタリングターゲット
プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。
- 企業：プランゼージャパン株式会社
- 価格：応相談
粒子画像速度測定法 (PIV) - アクティブターゲット
ステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVの平面・立体ターゲットで発生するヒューマンエラーを削減、短時間で校正が可能
Active Target は従来のステレオ PIV、ボリューム（Tomo）PIV/PTVにおける平面もしくは立体ターゲットにおいて生じるヒューマンエラーを削減し、より短時間で校正を完了することができます。 ターゲットにはLEDが装備されており、ソフトウェアからの制御によりこれを自動点滅させることによって奥行き方向の校正を短時間で行うことができます。トラバース装置を利用することで、広範囲に校正を行うことができる他、ターゲットを複数接続することによって、大領域での校正にも対応することができます。
- 企業：ダンテック・ダイナミクス株式会社
- 価格：応相談
シリコン側面スパッタリングターゲット
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
スパッタリング 瓦状のシリコンを何枚かつなぎ合わせて側面スパッタとして使用します。
- 企業：株式会社 産研舎 本社
- 価格：応相談
スパッタリングターゲット
自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。
・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。 ・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。 ・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。 ・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。 ・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。
- 企業：井嶋金銀工業株式会社
- 価格：応相談
円筒ターゲット
スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並びに蒸着材料をリーズナブルな価格でご提供致します。
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 １．製法：溶解材押出し一体もの 代表的材料：Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ 利点：割れるリスクがない、低速回転可能 欠点：高純度品が無い ２．製法：プラズマスプレイ 代表的材料：Ｓｉ、Ａｇ、ＺｎＡｌ等 利点：割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点：５Ｎ以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註：表面仕上方法により初期立上げ時間を短縮可能 ３．製法：コールドスプレイ 代表的材料：Ａｇ 等 利点：割れるリスクが比較的少ない、使用済みターゲットの上にそのまま溶射できる。 欠点：プラズマスプレイ法より高価。初期立上げに時間がかかる。 註：上記２と同じ ４．製法：キャストターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：特殊合金等 利点：高純度品が可能。 欠点：切れ目からのアークのリスクがある。低速回転にて、割れたりインジウムが溶ける。高価。投入限界パワーが低い。 ５．製法：焼結ターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：ＩＴＯ、ＡＺＯ等 利点：高純度品が可能。材料を選ばない。 欠点：上記４と同じ
- 企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
- 価格：応相談
Zenith polymer 標準拡散反射ターゲット
99 ％反射の標準反射板。250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性。
SphereOptics社製Zenith Polymer 標準拡散反射ターゲットは、独自素材のZenith Polymer反射材から製造されています。 熱、湿気、および高出力光源からの照射に耐久性がある他、250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つなど、標準反射板として最適です。 これらのターゲットは10 mmの厚さを持ち、簡単に固定するためにフレームに取り付けることができます。 ■特長 ・99 ％の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・バッチによる反射率の公差 ±3 ％ ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・PTBおよびNISTトレーサブルなPerkinElmer Lambda 950を使用した認定校正 ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -50 ～ 250 ℃ ・動作湿度範囲 ： 5 ～ 95 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズ
250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率と理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つ大型標準反射板
SphereOptics社製工業用グレード拡散反射ターゲット RTIシリーズは、ZenithPolymer拡散反射シートをアルミニウムブレッドボードに特殊接着剤で取り付けて作製された、大型の標準拡散反射板です。 250 ～ 2450 nmの幅広いスペクトル範囲でフラットに近い反射率を持ち、かつ理想的なランバート反射に近似した反射特性を持つので、標準反射板として最適です。 ■特長 ・2 ～ 95 ％の14種類の拡散反射率 ・250 ～ 2450 nmの波長範囲でフラットに近い反射率 ・理想的なランバート反射に近似 ・レーザー損傷閾値：8 J /cm² @ パルスレーザー ・無極性、絶縁体、疎水性 ・化学的不活性（除外：有機リチウム、ナトリウム化合物とは反応） ・動作温度範囲 ： -5 ～ 65 ℃ ・動作湿度範囲 ： 10 ～ 90 ％
- 企業：MSHシステムズ株式会社
- 価格：応相談
工業用合金スパッタリングターゲット、インゴット
創業60年、確かな技術
弊社では電子機器、半導体等電子部品薄膜用のスパッタリングターゲット等、合金の工業製品の製造(溶解・圧延・加工)も行っております。 細かな対応も可能であり、 研究用や試作用など小ロットからの製造も承っております。 角ターゲット、チップ、その他形状ご依頼に応じて作成いたします。お気軽にお問合せください。
- 企業：城北冶金工業株式会社
- 価格：応相談
【次世代通信デバイス向け】薄膜材料（ターゲット・蒸着材）
既存材料で満足できない 少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現
WAVES 株式会社では半導体向け スパッタリングターゲット・蒸着材 を幅広いニーズに対応しております。 弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ AlSc Ni系 Ti系 Al系 【特徴】 ・純度が99.9％から99.9999％ ・小ロットから発注可 ・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可 ・エンハンストターゲット対応可 ・高品質 ・分析証明書とSDS付属
- 企業：株式会社WAVES
- 価格：応相談
韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)
液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソースとしてご検討ください。
＊大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊光学デバイス用。 ＊ITO（酸化インジウムスズ、In2O3＋SnO2）系、 および、IGZO（インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn）系 のターゲット材がございます。 ＊平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 ＊高純度・高密度品をご提供できます。 ＊蒸着中に錯乱粒子が少なく、クラック発生が少なくできます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
- 企業：蝶理株式会社 無機ファイン部
- 価格：応相談
韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)
太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99％以上の高純度品です。
＊TCO（透明導電膜）ターゲット材 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、 ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 がございます。 AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。
- 企業：蝶理株式会社 無機ファイン部
- 価格：応相談
