チタン(Ti)ターゲット
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
■各種類純度対応可能 ■形状: プレーナー ロータリターゲット 非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社スパッタコア 本社
- 価格:応相談
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チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
■各種類純度対応可能 ■形状: プレーナー ロータリターゲット 非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体製造プロセスや、HDDなどの記録メディア、フラットパネルディスプレイなどの薄膜形成に使用な酸化チタン!
■純度>99.9% ■密度(4.49 g/cm³) ■製造方法:HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
工具・切削工具用コーティング、半導体デバイス内のトランジスタや集積回路、バリア膜などの形成に利用可能なアルミチタン材料!
■純度:99.999% ■密度(2.72 g/cm³) ■製造方法:溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
マイクロチップのゲート回路などにおける、金属配線用の拡散防止剤や接着剤として使用可能なタングステンチタン材料
■純度:99.9% ■密度(19.3 g/cm³) ■製造方法:粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。