ジルコニウム(Zr)ターゲット 純度≧3N5、Hf≦0.2wt%，出荷中
エネルギー貯蔵業界では、高性能な材料開発が求められており、ジルコニウム(Zr)ターゲットはその一翼を担う可能性があります。特に、耐久性と信頼性が重要であり、ターゲット材の品質が成膜の効率を左右します。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高品質な成膜を実現し、エネルギー貯蔵デバイスの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・高性能蓄電池 ・水素貯蔵 【導入の効果】 ・高品質な成膜によるデバイス性能向上 ・長期的な信頼性の確保
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基本情報
【特長】 ・純度≧3N5 ・Hf≦0.2wt% (<500ppm可能) ・O≦200ppm ・H≦3.5ppm ・N≦5ppm ・そり≦0.1mm 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスを提供します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■光学と光電の分野 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
